电子行业深度报告：国产半导体设备研究框架，光刻机、薄膜沉积、刻蚀机、清洗、氧化、离子注入、量测-20220519-方正证券-136页
本文件深度剖析了国产半导体设备产业链的现状与未来机遇，为出海企业提供了一份从核心技术到供应链安全的战略级研判。文件指出，随着全球科技博弈加剧，半导体设备国产化替代已成为刚性需求，中国企业在刻蚀、薄膜沉积、清洗等关键环节已实现突破，正迎来“单品类崛起→平台化扩张”的黄金窗口期。 高价值信息速览 国产替代空间巨大，国产化率仅7%：2020年中国晶圆厂设备采购总额达154亿美元，其中国产设备采购额仅9.
报告时间：2023-03-29
报告来源：Owen跨境
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