英伟达CEO黄仁勋在All-In峰会上预测，中国有望在2030年前研制出先进的国产光刻系统。他指出，一旦技术成熟，凭借强大的大规模生产能力，国产设备进入本土晶圆厂只是时间问题。
这一观点比阿斯麦核心光学供应商蔡司更为乐观。蔡司半导体负责人Frank Rohmund近期曾表示，中国研发出国产EUV光刻机可能还需约15年。值得注意的是，峰会主持人当时询问的是广义的“先进光刻系统”，并未特指EUV，黄仁勋的回答也未将其限定为EUV技术。