8月25日，中微公司（688012）宣布其先进薄膜设备累计出货量突破500个反应台，涵盖低压化学气相沉积（LPCVD）、金属薄膜沉积及介质薄膜沉积等多款核心机型。这一里程碑标志着中微公司在高端薄膜沉积领域已实现规模化商用，技术稳定性与交付能力获市场广泛认可，该业务正成为公司新的核心增长点，推动其平台化战略进入新发展阶段。
薄膜沉积设备是芯片制造的关键环节，广泛应用于先进逻辑、存储及封装等制程。中微公司凭借技术创新与差异化布局，已成功构建覆盖钨薄膜、金属栅等多品类的产品组合，满足先进制程的严苛需求。
特别是在关键的钨金属沉积领域，中微自主研发的CVD-W、HAR-W及ALD-W系列设备表现亮眼。这些设备不仅通过了多家核心存储客户的验证，满足了先进存储金属互连及三维存储字线等工艺要求并持续获得量产订单，同时也已在领先逻辑器件制造商处实现批量交付，并完成了特色器件的工艺验证。凭借优异性能，该系列产品已全面覆盖先进存储、逻辑及特色器件三大领域，市场渗透率正在稳步提升。