{
"title": "韩国简化EUV光刻机审批流程，助力半导体产业发展",
"date": "2026-06-02",
"summary": "韩国政府通过新规，将EUV光刻机列为“特定设备”，大幅缩短审批时间并降低企业成本。",
"details": "韩国产业通商资源部于6月2日宣布，《高压气体安全管理法施行令》修订案已获国务会议通过，将于下周公布并即刻生效。该政策专门针对极紫外（EUV）光刻机等尖端半导体设备，将其归类为“特定设备”，从而免除中间检查环节。同时，技术审查与竣工核验的时间均被压缩至2天，使得整体审批周期从原来的34天锐减至9天。此外，这一调整还允许企业免去每台设备约5亿韩元的海外检验费用。此举旨在加速先进半导体设备的部署速度，提升产业链的整体响应效率。"
}