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SK海力士无锡DRAM工厂洁净室将提前至2027年3月投用
2026-01-04 16:06 星期日
SK海力士计划于2027年3月在龙仁半导体产业集群的生产基地启用首个洁净室,比原定时间提前约两个月,以加快DRAM产能扩张。该基地将专注生产下一代DRAM内存,包括高带宽内存(HBM),目前正处于建设阶段。
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