图1. (a) n-CIS、n-CIS/o-CIS和o-CIS流程图。n-CIS/o-CIS同质结的(b) SEM, (c) TEM, (d) HRTEM。n-CIS, o-CIS和n-CIS/o-CIS同质结的(e) Cd 3d, (f) In 3d和(g) S 2p高分辨率光谱。
基础表征手段首先证明了n-CIS/o-CIS同质结的成功制备 (图1)。XPS结果显示不同元素的结合能有所变化,已证明载流子可通过同质结中的[In-S]层从o-CIS迁移到n-CIS,从而在n-CIS/o-CIS复合材料中建立了从o-CIS到n-CIS的内部界面电场 (IEF)。