光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解 度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工 制作，约占IC制造材料总市场的6%，是重要的半导体材料。 光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料，具有纯度要求高、生产工艺复杂、技术积累期 长等特征光刻胶自20世纪50年代被发明以来就成为半导体工业最核心的工艺材料之一。20世纪90年代，光刻胶 又被运用到平板显示的加工制作，大力推动了平板显示面板的高精细化、大尺寸化、高精细 化和彩色化。随着市场半导体产品小型化以及功能多样化的要求，半导体光刻胶需要不断缩短曝光波长提 高极限分辨率，来达到集成电路更高密度的集积。随着IC集成度的提高，世界集成电路的制 程工艺水平已由微米级进入纳米级。光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料， 具有纯度要求高、生产工艺复杂、技术积累期 长等特征。
光刻胶是电子化学品中技术壁垒最高的材料，具有纯度要求高、生产工艺复杂、生产及检测 等设备投资大、技术积累期长等特征。从相关技术来看，光刻胶的核心技术包括配方技术、 质量控制技术和原材料技术，配方技术是光刻胶实现功能的核心，而质量控制技术能够保证 光刻胶性能的稳定性，而光刻胶原材料的品质对光刻胶的质量起着关键作用。根据trendbank数据，全球光刻胶原料的主要生产企业 共44家，按所属地进行分类，这些原材料生产企业分 别位于日本、美国、中国、韩国、英国以及荷兰。日本 企业最多，占据全球光刻胶原材料生产企业数量的 49%。虽然中国企业数量占比29%，但产量和规模较 小，且品种规格较为单一，主要原料仍然依赖进口。我国光刻胶及专用化学品的研究起步较晚，但国家层面 非常重视，从“六五计划”至今都一直将光刻胶列为国 家高新技术计划、国家重大科技项目，进步很快。
宁波南大光电材料有限公司是江苏南大光电材料股份有限公司于2018年1月在北仑区芯港小镇成立的光刻胶配套材料子公司。项目总投资15.6亿元，年产25吨ArF光刻胶。光刻胶是集成电路制造的关键电子材料之一。我国IC行业使用的光刻胶几乎完全依赖进口，这种局面亟待改变。没有光刻机，开发和产业化光刻胶很难实现。在国家“02-专项”和北仑区政府的支持下，南大光电率先购买了193纳米浸没式光刻机，用于光刻胶产品开发。
Xmart万物智汇新材料行业数字化解决方案在电子材料领域目前已经覆盖电子特气、MO源、光刻胶、蚀刻液、显影液等众多行业。