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微导纳米黎微明:让ALD技术充分发挥前瞻性和共性技术的作用

微导纳米黎微明:让ALD技术充分发挥前瞻性和共性技术的作用 芯谋研究
2023-11-02
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导读:ALD技术是当下最主流的薄膜沉积技术之一

| ALD技术是当下最主流的薄膜沉积技术之一

10月13-14日,由张江高科、芯谋研究联合主办的第九届张江高科·芯谋研究集成电路产业领袖峰会上海浦东张江召开,微导纳米CTO黎微明博士在次日举办的设备材料分论坛中以《ALD技术在先进半导体芯片的应用及国产化展望》为主题发表演讲。

器件结构逐渐愈来愈复杂,深宽比越来越大,驱动着薄膜沉积技术的进步。按工艺原理的不同,薄膜沉积可分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD),以及电镀等等。进入到2000年以后,逻辑芯片和存储芯片的制造工艺难度增加,传统的PVD和CVD难以满足市场需求,ALD(原子层沉积)技术作为一种新型的沉积技术开始受到行业关注。同时,全球ALD技术在基础研究方面发展提速,相关知识产权以及研发人员数量快速增加,让ALD技术成为了当下最主流的薄膜沉积技术之一。
黎微明博士指出,传统的PVD和CVD在镀膜方面具有局限性。ALD技术特点在于可在复杂形貌上,完成原子层精度控制能力的高质量薄膜沉积工艺。具体来看,ALD技术具有三维共形性,可广泛适用于不同形状的基底。其次ALD技术是单层叠加生长,所以能够保障成膜质量、均匀性。第三,ALD技术可实现亚纳米级的薄膜厚度控制。第四,ALD技术的掺杂工艺可以实现新功能薄膜复合材料的制备。
在后摩尔时代,ALD 技术在high-k材料、金属栅、电容电极等工艺中均存在大量应用,可被广泛应用于逻辑芯片、存储芯片、化合物半导体等领域。随着未来新兴市场的发展,ALD需求会将进一步扩大。
ALD技术壁垒高。在2020年之前,全球高端ALD装备市场份额中,国产装备几乎为零。2020年微导纳米出货了第一台国产量产型high-k ALD设备,交付国内芯片厂做验证,不到一年时间验证通过,实现了国产ALD设备“从0到1”的突破。经过近两年的发展,以微导纳米为代表的国产高端ALD装备在逻辑、存储等领域均取得了不错的成绩。
黎微明博士表示:“国产装备、材料、下游企业的创新驱动势头非常迅猛。微导纳米也一直秉承着创新理念支持ALD技术的发展。”
在国产化创新方面,微导纳米做了大量工作,是第一家将ALD技术规模化应用于光伏领域的企业。微导纳米提出了新的技术、新的设计理念,实现了PEALD设备的量产。PEALD技术是一种基于等离子体增强辅助反应的ALD,在制备纳米电子器件和光电器件方面有广泛的应用。
关键零部件的发展是ALD技术的重要环节。目前,关键零部件国产化正得到全产业链高度重视,快速发展,但短期内满足产业化要求具有挑战。
黎微明博士指出,设备中的零部件国产化率提升,需要和下游客户共同努力。下游客户对国产化关键零部件的引入和评估,对于国产化率的提升有非常大的作用。
作为一家致力于ALD发展的本土企业,微导纳米计划在半导体领域,未来能够基本覆盖4寸、6寸、8寸到12寸晶圆的市场需求;推动现有制程技术国产化,引领国内技术升级;推动创新国内技术迭代,替代关键工艺技术国产化;在3D-IC、OLED封装、功率半导体等方面,希望突破全球技术市场,抢占市场发展制高点。
黎微明博士总结道:“ALD 技术本土化以及在一些关键行业领域的最新进展表明,IC制造所需国产ALD装备正在逐渐实现产业化。在新时期,国内相关企业要通过努力创新,抓住发展机遇,让ALD技术能够充分发挥其前瞻性和共性技术的作用。未来,国产化ALD技术在尖端半导体制造领域的产业化前景广阔。”




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芯谋研究(ICwise,官网:www.icwise.com.cn)致力于成为一家根植于中国的世界级半导体及电子行业权威的研究机构,2021年荣获上海市集成电路行业协会20周年“行业特殊贡献奖”。芯谋研究拥有众多优质的合作伙伴,曾为广东省、重庆市、安徽省、合肥市、绍兴市等各级地方政府制定针对性的半导体产业发展规划。芯谋研究的客户群体覆盖全球半导体各产业链头部企业,是具有国际影响力的中国半导体产业研究智库。

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芯谋研究(ICwise),全球领先的半导体产业研究机构,中国高端半导体智库,拥有近30名半导体产业分析师,是全球多家领先企业的研究伙伴、中国多个地方政府发展产业的智库顾问。芯谋研究提供产业规划、市场咨询、会议活动、投融资等多项服务。
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