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宁夏申和:申请降低单晶硅棒氧含量新专利,提升制程效率!

宁夏申和:申请降低单晶硅棒氧含量新专利,提升制程效率! 光伏研习社
2025-03-19
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近日,宁夏申和新材料科技有限公司最近申请了一项名为“降低单晶硅棒纵向氧含量的拉晶方法”的专利。这项新技术的公开号为CN119615354A,申请日期为2024年12月,标志着公司在单晶硅技术领域的重要突破。

该专利的核心在于通过创新的拉晶工序,显著降低单晶硅棒尾部的氧含量,提升了产品的品质与稳定性。根据专利的摘要,此方法包括等径前期工序、等径中期工序和等径后期工序。其中,等径中期工序又细分为第一等径中期和第二等径中期。通过严格控制晶棒拉制过程中的埚转、晶转、炉压及氩气流量等关键参数,该方法确保了晶体生长的稳定性与均匀性,尤其在降低尾部氧含量方面取得了显著效果。

具体而言,在等径前期和第一等径中期中,保持了液面平稳;在第二等径中期中,炉压逐渐降低,进一步保证了晶体的生长质量;而在等径后期工序中,适度增大氩气流量以确保更佳的气氛环境,从而有效减少材料中的氧含量。

宁夏申和新材料科技有限公司成立于2011年,位于银川市,主要从事电气机械和器材的制造,注册资本31950万元,近年来致力于技术创新和市场拓展。目前,该公司已参与招投标项目2次,拥有61项专利和11个行政许可,显示出其在新材料领域的活力与潜力。


晚宴组织



主办单位:材能时代

联合主办单位浙江亿值旺新材料科技有限公司

协办单位征集中...

承办单位北京材能时代数字科技有限公司

时间安排2025年3月25日 15:00-21:00



活动奖品:参与掼蛋比赛即可获得神秘礼品一份!
一等奖一份:2025年第二届SiC半导体晶体生长技术研讨会展位一个!(7月份,免参会费,餐费自理1000元/人)
地点上海新国际博览中心附近   
规模:10-12桌,限额120名,先报先得。

会议议题


●碳化硅(SiC)晶体生长中的高温工艺优化

●氮化镓(GaN)的异质外延生长挑战与解决方案

●第三代半导体晶体生长设备的关键技术创新

●第三代半导体晶体生长的杂质控制与掺杂技术


报名须知


  1. 本次晚宴面向半导体材料、设备企业从业人员无偿免费开放(同公司限2名参加)

  2. 报名者需提供基本信息,包括但不限于姓名、所在公司、职位以及联系方式。

  3. 为了保证晚宴的专业性和交流质量,所有报名者需通过我们的审核,收到电话或微信通知视为报名成功



联系我们

      

参会、宣传及赞助事宜:


联 系 人:刘萌萌

联系电话:13352471565(微信同号)

邮箱:caineng1565@163.com

联 系 人:刘冬华

联系电话:13397963000(微信同号)

邮箱:caineng3000@163.com


点击左下方阅读原文,立即报名参加2025第三代半导体晶体生长技术交流晚宴!



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