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1. 表面分析技术缩写
1）原子吸收光谱法：Atomic Absorption Spectroscopy，AAS
2）俄歇电子能谱：Auger Electron Spectroscopy，AES
3）场发射俄歇电子能谱：Field Emission Auger Electron Spectroscopy，FE AES
4）电子能量损失谱：Electron Energy Loss Spectroscopy，EELS
5）显微傅里叶变换红外光谱：Micro Fourier Transform Infrared Spectroscopy，Micro-FTIR
6）辉光放电质谱：Glow Discharge Mass Spectrometry，GDMS
7）电感耦合等离子体质谱：Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry，ICP-MS
8）激光剥蚀电感耦合等离子体质谱：Laser Ablation Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry，LA-ICPMS
9）拉曼光谱：Raman Spectroscopy，Raman
10）卢瑟福背散射能谱/氢向前散射谱：Rutherford Backscattering Spectrometry/Hydrogen Forward Scattering，RBS/HFS
11）扫描电子显微镜-能量散射X射线能谱：Scanning Electron Microscopy-Energy Dispersive X-Ray Spectrometry，SEM-EDS
12）场发射扫描电子显微镜：Field Emission SEM，FE SEM
13）二次离子质谱：Secondary Ion Mass Spectrometry，SIMS
14）扫描探针显微镜/原子力显微镜：Scanning Probe Microscopy/Atomic Force Microscopy，SPM/AFM
15）透射电子显微镜：Transmission Electron Microscopy，TEM
16）飞行时间-二次离子质谱：Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry，TOF-SIMS
17）全反射X射线荧光：Total Reflection X-Ray Fluorescence，TXRF
18）气相沉积：Vapor Phase Decomposition，VPD
19）X射线光电子能谱/化学分析电子能谱：X-Ray Photoelectron Spectroscopy/ Electron Spectroscopy for Chemical Analysis，XPS/ESCA
20）X射线衍射：X-Ray Diffraction，XRD
21）X射线荧光：X-Ray Fluorescence，XRF
2. 表面分析技术基本物理原理
3. 表面分析技术探测灵敏度与空间分辨率
4. 表面分析技术能力对比表
5. 样品要求
检测元素范围：Li-U
痕量分析灵敏度高：ppb-ppt 原子浓度
体相元素、同位素的定量与半定量分析
深度剖析得到成分随深度的分布曲线
高纯材料（如超高纯金属、半导体材料）中痕量杂质的鉴定
固体导体和半导体材料的直接分析
痕量分析灵敏度高：0.1-1ppm原子浓度
表面元素、同位素、分子式的表征
线/面扫描（2D成像）得到成分分布像
深度剖析和3D成像
真空转移盒
3）X射线光电子能谱仪（XPS）
② 相关参数
检测元素范围：Li-U
检出限：原子浓度0.01%
检测深度＜10nm
表面成分定性半定量、化学态分析
氩离子枪、团簇离子枪深度剖析
原位高低温（153-773K）
真空转移盒
4）电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）
① 定义：电感耦合等离子体质谱（ICP-MS），是一种用于液体样品痕量和超痕量元素分析的高度灵敏的元素分析技术。它利用高温的电感耦合等离子体（氩等离子体，温度可达6000-10000K）作为离子源，将样品中的元素几乎完全电离成带正电荷的离子，这些离子随后被质谱仪（通常是四极杆质量分析器）根据其质荷比进行分离和检测。
由于ICP-MS具有极低的检测限、宽的线性动态范围以及同时分析多种元素的能力，它已成为溶液样品元素分析最强大和通用的技术之一。通常需要将固体样品预处理成溶液进行分析。
② 相关参数
检测元素范围： Li-U
痕量分析灵敏度： ppt (ng/L)-ppb (μg/L) 量级
③ 主要功能
痕量元素的定性、定量与半定量分析
同位素比值测定与同位素稀释法精确定量
快速多元素同时分析能力
液相色谱联用（LC-ICP-MS） 进行元素形态分析（如As, Hg, Cr的不同形态）
线扫描与面扫描成像（与激光剥蚀LA联用时）
液体进样系统
5）电子能量损失谱（EELS）
① 定义：电子能量损失谱（EELS），是一种集成于透射电子显微镜（TEM） 中的高空间分辨率微区成分与化学态分析技术。它利用高能电子束穿过超薄样品时，与样品原子发生非弹性散射而损失能量的原理，通过分析透射电子的能量分布，来获取材料的成分和电子结构信息。由于EELS探测的是非弹性散射电子，其对轻元素（如B, C, N, O）异常敏感，并能提供关于元素化学价态、局域电子结构和光学性质等丰富信息。结合TEM的高空间分辨率（可达原子级），EELS能实现纳米尺度甚至原子尺度的成分与结构关联分析，是先进材料微观分析的核心技术之一。
② 相关参数
检测元素范围： H-U （尤其擅长轻元素分析）
空间分辨率： 亚纳米级 （与电镜束斑尺寸相关）
能量分辨率： 0.1-1 eV （取决于单色器性能）
③ 主要功能
元素组成（尤其是轻元素）的定性与定量分析
元素化学价态与化学环境的表征
能带结构信息（如带隙、等离子体激元）的测量
线扫描与面扫描（2D/3D成像） 得到成分/价态分布图
界面和缺陷的原子尺度化学成分分析
单色器和球差校正器
6）场发射俄歇电子能谱（FE-AES）
① 定义：场发射俄歇电子能谱（FE-AES），是一种利用场发射电子枪作为激发源的高空间分辨率表面分析技术。它通过聚焦电子束轰击样品表面，激发出俄歇电子，并通过分析这些俄歇电子的动能来确定样品表面的元素组成。
由于采用了场发射电子枪，FE-AES能获得非常细、亮度高的电子束，从而实现纳米级的空间分辨率。它对于除氢、氦以外的所有轻、重元素都非常敏感，是微区分析、薄膜研究和工艺缺陷分析的重要工具。
② 相关参数
检测元素范围： Li-U （可检测除H、He外的所有元素）
空间分辨率： < 10 nm
分析深度： 0.5-3 nm （非常表面敏感）
深度分辨率： ~ 1 nm
③ 主要功能
表面元素的定性与半定量分析
高分辨率线扫描与面扫描（二次电子像与元素面分布图）
深度剖析（结合离子溅射枪）得到成分随深度的分布曲线
纳米尺度的污染物、缺陷和颗粒物鉴定
超高真空系统
7）拉曼光谱（Raman Spectroscopy）
① 定义：拉曼光谱（Raman Spectroscopy），是一种基于拉曼散射效应的分子结构分析技术。它利用一束单色激光与样品分子相互作用，测量由于分子振动和转动导致的非弹性散射光（拉曼散射）的频率和强度。这种频率变化（称为拉曼位移）对应于分子中化学键和官能团的特定振动能级。由于拉曼光谱提供的是分子的“指纹”信息，能够无损、快速地鉴定化学物种和分子结构，是现代表面分析、材料科学和生命科学中重要的组成之一。
② 相关参数
光谱范围：50-4000 cm⁻¹ （拉曼位移，对应分子振动/转动能级）
空间分辨率：亚微米级（取决于激光波长和物镜）
检测模式：无损、非接触
③ 主要功能
分子结构、化学成键与晶相的表征
成分鉴别与物相分布成像（2D/3D成像）
应力分布与温度分布测量
共焦显微分析，实现样品特定深度的层析检测
可与扫描探针显微镜（TERS） 联用，实现纳米级空间分辨率
共焦显微镜系统
8）二次离子质谱（SIMS）
① 定义：二次离子质谱（SIMS），是一种基于离子溅射的表面和体相元素分析技术。它利用聚焦的一次离子束轰击样品表面，溅射出被称为二次离子的原子、分子和原子团，然后通过质谱仪对这些二次离子进行质量分析和检测。根据一次离子束流密度和分析模式的不同，SIMS主要分为两种：
静态SIMS：使用极低剂量的初级离子，对样品最外层（1-3 nm）进行近乎无损的分析，主要用于表面化学和分子结构表征。
动态SIMS：使用较高束流的初级离子进行持续溅射，实现深度剖析和体相元素的高灵敏度痕量分析。
SIMS是表面科学和材料分析中灵敏度最高的技术之一，能够提供从最表层到微米深度的三维化学成分信息。
② 相关参数
检测元素范围： H-U，并可区分同位素
痕量分析灵敏度： ppb-ppm（动态SIMS），最高可达ppb（十亿分之一） 量级
③ 主要功能
表面元素、同位素及分子结构的表征（静态SIMS）
痕量杂质元素的深度剖析与定量分析（动态SIMS）
线/面扫描（2D成像） 得到成分分布像，空间分辨率可达纳米级
深度剖析和3D成像，重构化学成分的三维分布
半导体掺杂元素分布与污染物分析
真空转移盒
9）透射电子显微镜（TEM）
① 定义：透射电子显微镜（TEM），是一种利用高能电子束作为照明源，对薄样品进行超高分辨率成像、晶体结构分析和微区成分分析的技术。它通过电子枪发射电子，穿透纳米级厚度的样品，根据样品内部结构对电子的吸收和散射差异形成图像或衍射花样。
由于电子的波长极短，TEM能够突破光学显微镜的衍射极限，实现原子尺度的直接观察。它不仅能提供样品的形态信息，还能提供晶体结构、化学成分和电子结构等信息，是材料科学、生命科学和纳米技术领域中不可或缺的尖端分析工具。
② 相关参数
分辨率： ~0.1 nm（原子级分辨率）
放大倍数： ~50-1,000,000 倍
加速电压： 80-300 kV
③ 主要功能
高分辨率形貌观察（HRTEM）获得原子晶格像
电子衍射（SAED）分析晶体结构、物相鉴定
成分分析（配合能谱仪EDS）进行微区元素定性与定量分析
扫描透射模式（STEM）实现高角度环形暗场像（HAADF）衬度成像及线/面扫描元素分布分析
三维结构重构（电子断层扫描）
超薄样品制备设备
10）扫描探针显微镜 / 原子力显微镜（SPM/AFM）
① 定义：扫描探针显微镜（SPM），是一大类通过扫描一个物理探针在样品表面上方，检测探针与表面之间的各种相互作用力来表征样品表面性质的显微镜技术的总称。原子力显微镜（AFM） 是其中应用最广泛的一种，它通过检测探针尖端与样品表面之间的原子间力（范德华力）来工作。由于AFM不依赖光学透镜，其分辨率不受光学衍射极限的限制，能够在大气、液体或真空等多种环境下，提供真正的原子级分辨率的三维形貌信息。它是一种强大的表面形貌与物性分析工具，对样品通常无需特殊制备且无损。
② 相关参数
分辨率： 垂直亚埃级（<0.1 nm），横向纳米级（~0.5 nm）
测量力范围： 10⁻¹² 至 10⁻⁹ 牛 (N)
成像环境： 大气、液体、可控气氛、真空
③ 主要功能
表面三维形貌成像与粗糙度分析
多种物性表征：包括表面电势、磁力、静电力、摩擦力等
力-距离曲线测量，用于研究纳米力学性质（如：弹性、粘附力）
实时观测样品在液体环境中的动态过程（如：蛋白质吸附、电化学反应）
纳米操纵与纳米加工
探针
11）X射线衍射（XRD）
① 定义：X射线衍射（XRD），是一种基于晶体对X射线的衍射效应来鉴定物质晶体结构的非破坏性分析技术。它利用特定波长的X射线照射样品，当X射线的波长与晶面间距满足布拉格定律时，会在特定角度产生衍射加强信号，通过探测这些衍射信号的角度和强度，可以获得样品的晶体结构信息。由于XRD能够提供关于物相组成、晶格参数、结晶度、晶粒尺寸和晶体缺陷等丰富的结构信息，并且对样品无损，它是材料科学、化学、地质学、物理学等领域中进行物相鉴定和结构分析最核心和通用的技术之一。
② 相关参数
检测对象范围： 晶体材料（金属、陶瓷、矿物、半导体等）
角度测量范围： 通常 5°-140° (2θ)
检测限： 约 0.1-1 wt% （对于多相混合物中的特定物相）
③ 主要功能
物相定性与定量分析（物相鉴定）
确定晶格常数、晶粒尺寸与微观应变
测量结晶度与晶体取向（织构）
残余应力分析
高温/低温原位结构演变研究
样品旋转台
12）X射线荧光光谱（XRF）
① 定义：X射线荧光光谱（XRF），是一种用于固体和液体样品无损分析的元素成分分析技术。它利用高能X射线束照射样品，激发样品中原子的内层电子。当原子处于不稳定的激发态时，外层电子会跃迁至内层空穴，同时释放出具有特定能量的次级X射线，即X射线荧光。通过探测和分析这些荧光的能量（或波长）及强度，可以确定样品的元素组成与含量。由于XRF技术对样品几乎无损，且制样简单、分析快速，能够实现从微量到常量元素的直接分析。它是材料成分筛查、工业过程控制和地质调查等领域中应用最广泛的元素分析技术之一。
② 相关参数
检测元素范围： Na-U（常规范围），B-U（在真空/氦气环境下并使用特殊探测器）
元素分析范围： ppm-100%（含量）
③ 主要功能
元素的定性、半定量与精确定量分析
快速多元素同时分析能力
线扫描与面扫描（元素分布成像）
合金牌号鉴定与材料分类
镀层厚度与组成分析
无损分析
固体、粉末、液体样品均可分析
6. 测试周期
① 常规样品平均测试周期：到样1~3天，无需加急。
② 特殊样品：以协商周期为准。
7. 测试价格
一单一价
8. 测试流程
完成之后根据科研检测服务人员提供的账号进入订单系统：
http://customer.sainanecv.com
实时查询订单状态、数据下载、报销资料下载、争议数据复测等。
