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成果推荐丨UPSSS级高端电子氢氟酸制备技术：全连续流程、可柔性化生产

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2025-04-18

导读：工艺在国内外处于领先地位

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技术背景

电子级氢氟酸，又名高纯度氢氟酸，主要用途有：

（1）集成电路（IC）和超大规模集成电路（VLSI）芯片中作为蚀刻剂和清洗剂用。用于晶圆表面清洗，芯片加工过程中清洗刻蚀工序；

（2）太阳能光伏行业，用于硅片表面清洗；

（3）液晶显示屏行业，用于玻璃基板清洗，氮化硅、二氧化硅蚀剂；

（4）TFT-LCD 半导体产业中广泛应用；

（5）分析试剂，原子能工业化学试剂，制备高纯含氟化学品。

电子级氢氟酸属于半导体用湿电子化学品中通用的湿化学品，可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用。

氢氟酸的纯度和洁净度对集成电路的良品率、电性能及可靠性都有着十分重要的影响。

电子级氢氟酸按纯度划分 EL、UP、UPS、UPSS、UPSSS 五个级别。

其中UPSSS级别（相当于SEMI G5质量标准）的氢氟酸纯度最高，是12寸晶圆及更高规格的电子半导体产品制造环节必须用到的关键材料。

全球电子级氢氟酸的生产技术和供给主要被 Stella、大金、森田化学等日企所掌握。由于行业壁垒高，技术工艺难以突破，我国电子级氢氟酸行业起步较晚。

我国作为庞大的电子、通信、汽车、工业自动化等终端消费市场，对集成电路的需求量非常大，集成电路整体产业呈稳健增长的趋势，而本土集成电路产业规模依然较小。

随着世界半导体制造业向中国大陆的逐步转移，中国半导体行业将快速增长，下游需求以集成电路、太阳能光伏、液晶显示屏等领域为主，将推动电子级氢氟酸行业快速发展。

根据市场数据，目前电子级HF市场规模为2.7亿美元，预计到2025年将达到3.9亿美元。

由于亚洲和北美电子制造业的增长也推动了电子级 HF 市场的发展，预计未来几年，随着国内外企业在光刻和清洗领域的持续投资，电子级氢氟酸市场规模将继续扩大。

在确保产品竞争力的前提下，当前切入 UPSSS 级 HF 项目是一个较好的时机，产品市场前景看好，市场风险很小。

技术简介

本项技术产品定位为 UPSSS 级高端电子 HF，技术工艺在国内外处于领先地位。

技术优势

项目团队在国内现有的各类工艺基础上，做了大量的工艺和设备两方面的优缺点分析及改进措施。结合自身内部强大的研发实力和先进分析仪器，在新型反应、结晶、干燥设备以及原料品质和产品质量分析积累了大量实验和生产基础。

解决了行业内普遍存在的重大问题：

（1）项目使用全连续流程，反应工段可实现黑屏操作；

（2）解决行业普遍存在的杂质离子难处理，纯度不高的情况；

（3）关键设备保证装置长久运行，非计划停车降低为 0，同时确保金属离子处于行业领先地位。

（4）本装置建成后可实现柔性化生产，产品级别根据客户需要 G1-G5 不等；

（5）产品质量处于国际领先水平。

技术成熟度

可工业化

合作方式

技术转让

【声明】内容源于网络

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