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美国对中国的半导体管制之二 |
对在中国芯片公司工作的美国人的影响
关键点
新规定限制了美籍或持有绿卡的高管可以在工作中进行的活动;
这些美籍或持有绿卡的高管还是可以在遵守美国法律的情况下,继续以美国公民或绿卡持有者身份为公司做出贡献。
背景
自10月7日美国工业和安全局(Bureau of Industry and Security, BIS)公布了长达140页的对于半导体行业的管制条例以来,在中国芯片公司工作的美国护照或绿卡持有者一直对此怀有疑虑。对于他们中的一些人来说,无论他们目前身处美国还是中国,新规定似乎都要求他们不得不做出一个艰难的选择:
要公民身份/绿卡,还是事业?
10月发布的出口管制条例,似乎施加了非常严格的限制,使得持有美籍或绿卡的人士,几乎无法可以真正有效地为具有一定技术高度的中国芯片制造商工作。但在发布了出口管制条例之后,BIS又发布了一些指导意见,这些指导意见似乎又为这些在中国公司工作的美籍或绿卡的持有人士打开了一扇门。然而,平衡美国公民或永久居民身份和为中国公司工作的道路仍然充满了复杂性和风险性。
对“美国人”(US Person) 的限制
在10月份规定出台时,BIS对美国人活动的限制似乎已经达到了制裁的级别,即似乎任何持有美国护照或绿卡的人士都不能为生产达到或超过一定技术水平的中国半导体公司(“先进制造场所”)工作。
当时,我们曾写道(看全文请点击此链接 美国对出口中国的半导体进行管制):
“EAR限制美国人对开发任何芯片提供支持,如果该支持会被用在生产先进半导体的场所(即使不知道该场所是否生产先进半导体)。
条例规定,在没有获得许可的情况下,如果美国人向中国提供,即使是不受EAR管制的任何物项(这里没有限定,几乎可以是任何信息),而且他们知道这些物项将被用于开发或生产任何集成电路(请注意这一点,美国人提供的信息或物项,可能只是与低级别的商用现成集成电路有关),当这些集成电路将在位于中国的半导体制造场所中生产(注意这个定义的术语facility“场所”, 后面会讨论这个问题),且该场所制造的集成电路符合以下标准,BIS会认为他们违反了EAR第744.6条:
1.非平面结构的逻辑集成电路,或其生产技术节点为16/14纳米或以下;
2.具有128层或以上的NOT-AND(NAND)存储器集成电路;或
3.动态随机存储器(DRAM)集成电路,其生产技术节点为18纳米半间距或更小。
请注意,禁令并不限于美国人提供的信息和物项将被用于生产这些先进的集成电路。更确切而言,只要这些信息或物项,被用于生产上面列出的先进集成电路的场所里,无论是否被用于生产先进的集成电路,都会被禁止。”
“美国人”的不确定性及担忧
表面上,在新规定下,一个美国人似乎不能向中国公司提供任何会被用于在先进制造场所的信息。
但是,如果一个美国人为拥有先进制造场所的中国公司工作呢?如果该中国公司同时拥有先进制造场所和非先进制造场所呢?如果这个美国人是这样一家中国公司的所有者、董事或执行官呢?
例如,有些在美国学习并获得公民身份的科技公司高管创立了中国的科技公司,或是在中国的科技公司中升职,现在他们正在考虑是否需要为了拯救他们的企业而放弃美国的生活,或者相反,必须放弃企业。
对“美国人”的澄清
10月28日,BIS发布了对美国人活动限制的常见问题的解答。在这些解答中,监管机构似乎放宽了对法规的解释。
其中最重要的是,BIS明确指出,对美国人的限制不包括以下情况:
1. 从事行政或文秘活动的美国人;
2. 执行批准被管制的运输、转送或国内运转的决定;
3.与提供具体物项或服务给在中国的先进制造场所(即开发或生产符合上述先进标准的芯片)没有直接关系的“开发”或 “生产 ”活动,且没有证据表明这些人知晓任何违规行为。
这一澄清本身允许为中国半导体公司工作的美国人从事许多活动,只要其工作与先进制造场所的芯片技术水平没有直接关系。
此外,BIS解释道,“facility” 即场所一词只能解释为建筑物(building)。这意味着,即使一家公司在某个地点拥有先进制造的能力,只有提供先进芯片制造的 “场所 ”或 “建筑物”才会受到禁止,不会是整个园区都受到禁令的影响。如果该建筑物同时有高级和低级芯片制造的生产线,那禁令将对两条生产线都适用。
禁令范围的缩小给了美国人更多的活动空间。他们可以从事合法的活动,可以向中国提供获得许可的信息,前提是该信息将在与先进制造场所不同的建筑物中被使用。可以想象,为了利用这一规定,产品线可能会被切割以减少被禁止场所的范围。
所有这些明显限缩美国人活动的禁令范围及效力的措施,发生在引发整个行业担忧的三个星期之后。正如我们一位尊敬的同事当时写道:“如果在10月7日能知道这一点,那就太好了!”。然而,即使有了这些放宽的解释,与中国芯片公司合作的美国人面前的路依然是比较狭窄的。
保持美国身份与工作的平衡
10月发布的管制条例下的合规问题有很多细节问题,特别是对于为中国公司工作的美国人来说,我们无法在一篇文章中抓住所有的细微差别。因此,我们必须申明,以上内容并不是法律意见,每一个法律问题相关的事实需要单独进行分析。我们在下面的表格中提供了粗略的指导,希望可以帮助您评估有关保持美国身份与工作的平衡的决定。
我们将持续关注美国的法规及其对整个半导体行业的影响,并在这里提供更新。
U.S. - person
Activity
本文作者
Reid Whitten(卫理德)
美国盛智律师事务所 伦敦办公室 合伙人
邮箱:rwhitten@sheppardmullin.com
卫理德律师是盛智律师事务所伦敦办事处的管理合伙人,也是盛智律师事务所外国投资委员会(CFIUS)团队的负责人。
陈维国(Will Chen)
美国盛智律师事务所硅谷办公室 合伙人
邮箱:wchen.sheppardmullin.com
陈维国是美国盛智律师事务所硅谷办公室合伙人,清华大学工程和法律双学士,美国东北大学电子及计算机硕士,美国富兰克林皮尔斯法学院知识产权法硕士。在帮助硅谷和中国的高科技公司建立全面的专利组合、制定国际专利战略、评估,避免及应对知识产权侵权威胁、专利局的双方复审程序、专利诉讼、国际技术许可、公司并购中的知识产权资产交易谈判方面拥有丰富的经验。
陆媛梅
美国盛智律师事务所上海办公室 律师
邮箱: ylu.sheppardmullin.com
陆律师拥有七年以上工作经验,执业领域主要为投融资、并购,同时专注于美国证券法及其他合规工作。陆律师从哈佛大学法学院获得法律博士学位。
J. Scott Maberry, Lisa Mays, Jonathan Wang & Alexandra Bustamante 亦为本文共同作者。
中国区管理合伙人联系方式
Michael Zhang (张小艺)
电话:021 2321 6000
邮箱:mzhang@sheppardmullin.com
若有美国出口管制相关问题,敬请联系上海办公室管理合伙人。

