展会预告
2024年10月23日：苏州
中国国际纳米技术产业博览会CHInano
展会时间：10月23-25日
展会地点：苏州国际博览中心
展位号：B1号馆 T20
演讲主题：KLA轮廓仪在激光工艺相关形貌表征的应用
演讲人：王世源（KLA技术专家）
CHInano是具有权威和规模的纳米技术应用产业国际性大会。大会由峰会(主报告、专题技术分会、应用论坛)、展览、大赛、对接会等部分组成，重点聚焦纳米新材料、微纳制造、第三代半导体、纳米压印、纳米大健康、能源与清洁技术、纳米生物技术等产业领域。
此次演讲将展示KLA探针式台阶仪在硅基晶圆和Zeta™光学轮廓仪在化合物半导体晶圆利用激光进行晶圆ID 标记中的应用。Zeta™光学轮廓仪使用专利光学ZDot™点阵技术，可对晶圆ID 标记进行表征和识别，从而监控晶圆ID标记的位置。KLA探针式台阶仪使用线性差分电容式传感器的方式，满足亚纳米级高度测试，具有较高的稳定性和重复性。另外，此次演讲还将介绍Zeta™光学轮廓仪在激光划线和激光诱导的半导体制程应用。
2024年10月30日：常州
2024化合物半导体先进技术及应用大会
会议时间：2024年10月30-31日
展会地点：常州- 新城希尔顿酒店
本次会议由宽禁带半导体国家工程研究中心主办，将邀请半导体行业内的学科带头人、企业领袖，研发人员参加，预计参会规模达到400-500人。
我们将在展台上展示多款重点机台，并有技术专家为您提供技术咨询，更有精品礼品抽奖赠送，欢迎莅临！！
光学轮廓仪
我们丰富的光学轮廓仪系列产品涵盖多种光学测量技术，包含白光干涉技术，真彩色成像和ZDot™点阵专利技术，我们可以帮助您找到满足您测量需求的正确解决方案。Profilm3D®和Zeta™光学轮廓仪可为样品表面测量提供快速，便捷的非接触式3D表面形貌测量解决方案。
方块电阻测试仪
KLA方块电阻测试仪能够满足各种测量需求，包括：金属薄膜及背面工艺层厚度测量，衬底电阻率，方块电阻，薄膜厚度或电阻率，薄层和体材料的导电率，等等。
对于较薄的金属和离子注入层，建议采用接触式四探针(4PP)测量方法，对于较厚的金属层和柔性或软性的导电表面，建议采用非接触式涡流(EC)测量方法。
探针式轮廓仪
KLA Instruments™Alpha-Step®、Tencor®P系列、HRP®系列探针式台阶仪提供高精度的2D和3D表面形貌量测，可为您的研发和生产提供台阶高度、表面粗糙度、弯曲度和应力等测量，具有良好的稳定性和可靠性。
纳米压痕仪
KLA Instruments™的纳米压痕仪可对硬度、杨氏模量和其它力学性能进行精确测量。从发布其第一款纳米压痕仪，到将纳米压痕技术扩展到快速、高温和高应变速率测试中，我们一直在开发新的静态与动态测量方案，推动下一代纳米力学测试仪的发展。
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