台积电称无需ASML新光刻机即可制造下一代A16芯片

台积电对High-NA EUV的考量

1. 1、价格昂贵：据《经济日报》报道，High-NA EUV（高数值孔径极紫外光刻）设备价格高昂，台积电在考虑是否将其用于A16节点时感到震惊。

2. 2、技术研讨会上的表态：在阿姆斯特丹的技术研讨会上，台积电的Kevin Zhang博士表示，尽管欣赏High-NA EUV的技术能力，但其价格标签令人难以接受。

3. 3、性能优势：ASML的High-NA EUV设备能够在半导体上印制仅8纳米厚度的线条，比上一代技术小1.7倍。

4. 4、成本考量：High-NA EUV设备的售价高达3.5亿欧元（约合3.8亿美元），重量相当于两架空客A320客机。

5. 5、台积电的替代方案：Kevin Zhang博士表示，台积电可能会继续依赖现有的、较旧的EUV设备来满足A16节点的生产需求，因为这些设备应该能够支持该节点的生产。

6. 6、经济与技术平衡的考量：是否采用High-NA EUV技术将取决于其提供的经济效益和技术平衡。台积电尚未决定何时从ASML购买High-NA EUV设备。

7. 7、竞争对手的动向：与此同时，英特尔已确认收到并组装了业界首个High-NA EUV光刻系统，预计能够显著提高芯片密度。

8.