荷兰阿斯麦（ASML）全新机台却让台积电望之却步！英媒指出，尽管艾司摩尔最新一代的高数值孔径（High-NA）极紫外光（EUV）微影设备性能强大，但因这款机台单价高达4亿美元（约新台币120亿元），台积电高层表示，目前「找不到非用不可的理由」，因此暂时没有计划在A14及其后续制程中导入。
路透27日报导，这款先进机台价格逼近4亿美元，几乎是晶圆厂现有最昂贵设备的两倍。目前，各家芯片制造商正在仔细评估，这款设备在曝光速度以及解析度上面的提升，是否真的符合如此高昂的价格。
台积电技术开发资深副总经理张晓强表示，即便不使用High-NA EUV设备，A14制程仍能实现显著的技术升级。 「因此，我们的技术团队将持续专注于微缩（scaling）效益的开发，并致力于延长现有Low-NA EUV（低数值孔径极紫外光）微影设备的使用寿命。」
张晓强坦言：「只要我们能持续找到替代方案，就没有必要采用这款昂贵的设备。」事实上，早在去年，张晓强就曾公开表示，他对High-NA EUV技术抱持肯定态度，但对其价格感到却步。
相较之下，台积电竞争对手英特尔，已经计划在未来制程「14A」当中，使用High-NA EUV机台，并且试图借此来振兴晶圆代工事业，提升对台积电的竞争力。然而，英特尔也强调，客户仍然可以选择使用旧款且经过验证的技术。
艾司摩尔执行长福凯特（Christophe Fouquet）日前在法说会上提到，预计客户将于2026年至2027年间进行高NA设备的量产准备测试，届时业界才有可能考虑在最先进的制程中全面导入。
目前，艾司摩尔已向三家客户交付总共5台高NA设备，包括英特尔、台积电以及韩国三星。这机台重达180公吨、体积如同双层巴士，堪称全球最昂贵的半导体制造设备之一。