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一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺

一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺 石英产业
2024-10-11
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导读:据国家知识产权局信息显示,江苏亨芯石英科技有限公司拥有一项名为“一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺”的专利,公开号 CN115108713B,申请日期2022-06-15,公布日期2024-01-26

据国家知识产权局信息显示,江苏亨芯石英科技有限公司拥有一项名为“一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺”的专利,公开号 CN115108713B申请日期2022-06-15,公布日期2024-01-26。

专利摘要

本发明公开了一种高光学均匀性石英玻璃的制备工艺,包括两次槽沉工艺,具体包括以下步骤:(1)将表面经酸洗处理后的石英玻璃原料放入第一模具中,放入槽沉炉内,将槽沉炉抽真空,以10~15℃/min升温至1750‑1900℃,充氮气保持炉内微正压,保温1~5h,再以5~10℃/min降至室温取出,完成第一次槽沉处理;(2)对第一次槽沉处理后的料进行酸洗处理,然后置于第二模具中,放入槽沉炉内,抽真空以5~10℃/min升温至1600~1750℃,充氮气保持炉内微正压,保温2~8h,然后进行梯度降温至室温。本发明通过上述工艺可将长径比为2~10、光学均匀性较差的石英玻璃处理获得高光学均匀性、低应力、缺陷少的石英玻璃,满足光学及半导体领域对石英玻璃的性能要求。

 


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