近日，半导体材料企业「中科卓尔」已完成 B 轮领投方资金交割，领投方为中银国际投资旗下的成都交子中赢创新发展基金，多家跟投机构推进工作正加速，B 轮融资合计规模达数亿元。该笔资金将专项用于半导体光刻用石英掩模基板的工艺研发、国产化产线建设，助力突破量产瓶颈。
中科卓尔成立于 2018 年，由中科院光电所杨伟教授组建，不仅突破半导体掩模版基板精密抛光与镀膜关键技术，具备从工艺到核心设备的全链条研发生产能力，还承担着国家半导体空白掩模版产业链攻关项目。其产品矩阵覆盖 130-250nm 制程半导体 / 显示用空白掩模版（28-90nm 产品正推进研发）及相关核心设备。
空白掩模版是光刻工艺的图形转移核心载体，直接决定光刻精度与产品良率，是芯片和显示面板光刻机的关键材料。据多份研究报告，2024 年全球空白掩模版市场规模约 36 亿美元，中国市场需求折合约 100 亿元人民币。当前，中国大陆中高端空白掩模版高度依赖进口，几乎被日本 HOYA、日本信越化学、韩国 KTG 等企业垄断，国产化率不足 1%；且电子束曝光、缺陷检测等核心生产设备受美日出口管制，国内产业扩产受限，亟待破局。
目前，中国大陆仅 4-5 家企业能小批量向第三方供应石英空白掩模版，且关键制程设备仍依赖进口。「中科卓尔」创始人杨伟指出：“依赖进口设备的产线存在停摆风险”，同时强调 “现有光刻技术路线下，掩模版作为关键材料仍有约 10 年不可替代周期”。
技术层面，中科卓尔已实现三项自主突破：超精密抛光工艺表面粗糙度优于 0.2 纳米（国际主流水平 0.3 纳米）；磁控溅射镀膜设备膜层均匀性达 ±2%（国际标准 ±5%）；缺陷检测系统可识别 0.3 微米级瑕疵并关联生产数据。杨伟表示，国产空白掩模版在 130-500nm 制程已实现技术对标，100nm 以内先进节点仍需持续突破。
商业化进展上，中科卓尔空白掩模版已通过路维光电、龙图光罩及国内多家自研光刻机企业验证。目前其成都中试线已完成工艺与产品验证，本轮融资将重点推进量产能力建设。
团队背景方面，中科卓尔团队由杨伟教授主导，其导师 姜文汉院士为首席科学家顾问，持续指导掩模版基板缺陷检测与质量控制工作。核心技术团队汇聚多名博士及产业专家顾问，分别负责抛光、镀膜、检测等核心工艺环节。
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