金秋十月，第一届中国（淄博）新材料产业国际博览会暨第十九届中国（淄博）新材料技术论坛于10月16日在“新材料名都”山东淄博如期顺利开幕。
本届展会主要围绕“新材料、新平台、新动能”“三新”主题，突出“品牌化、高端化、国际化”“三化”特色，是一次高标准策划、高水平组织的展会标杆。
此次盛会将近40名院士、近40名国家重点人才工程专家等高层次人才、97所高校院所专家教授200余名出席。其中，淄博会展中心A馆、B馆和D馆三大展馆竞相争艳，布展面积达3万余平方米。本届新材料博览会暨论坛聚焦新型无机非金属材料、先进高分子材料、前沿新材料、新型轻合金材料、化工新材料、纤维及其复合材料等六大领域，展示国际国内新材料最新技术和应用。
武汉拓材科技参加此次展会的展位为D馆A035号，展会主要展示了公司高纯半导体材料（高纯碲、高纯镉、高纯铟、高纯镓等），MBE级产品（超纯铟、超纯锑、超纯镓、超纯砷、超纯铝），以及第二代半导体材料（磷化铟、砷化镓等），第三代半导体材料（碳化硅、氮化镓等）核心原材料及衬底片，随着5G时代的来临，对半导体新材料需求会急剧增加，我们旨在为广大客户提供半导体超高纯材料一站式解决方案。
