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北大教授正式宣布,事关国产EUV光刻机,ASML位置不保了?

北大教授正式宣布,事关国产EUV光刻机,ASML位置不保了? 星星艾米丽
2021-06-02
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导读:其实在芯片禁令之中,受影响最深的并不是华为。通过国内外发布的各种消息综合而知,在禁令实施之后,全球各国的各大
其实在芯片禁令之中,受影响最深的并不是华为。通过国内外发布的各种消息综合而知,在禁令实施之后,全球各国的各大企业都受到了一定程度的影响。

ASML也受挫伤

比如说美国当地的高通就失去了560亿元的市场,并且曾经凭借“高通税”赚得盆满钵满的高通,如今也只能够将全球第一大芯片企业的位置让给万年老二联发科,另外包括台积电也受到了不小的影响。
进入到2021年之后,台积电这边更是接连迎来了很多困难。美国暴风雪导致台积电在美国建厂的事情不得不延缓,而当地的电能以及水资源紧缺的问题更是使得台积电可很有可能会面临减产或者是停产的难题。

除此之外,全球第一大光刻机巨头ASML 也饱受折磨,阿斯麦的光刻机,尤其是高端的EUV光刻机,在全球没有任何一家厂商能够设计出来。而阿斯麦曾经放出过狠话,表示,即便是将图纸交给你们,也没有任何企业能够设计出一模一样的光刻机来。
阿斯麦的嚣张来源于他们的技术优势,可让阿思买万万没有想到的是,国产光刻机正在不断的崛起,禁令实施之后,全国上下都意识到半导体产业链自由的重要性,所以在这样的情况之下,国家定下了在2025年之前实现芯片自给率达到70%的目标。

国内光刻机迎来大好趋势

而为了能够实现这个目标,中国半导体相关的企业不断在行动,其中包括华为,晶瑞股份,中芯国际,同为半导体,上海微电子,紫光展锐等等,都在半导体产业链的不同领域之中不断努力着。

事实上,我们一如今也取得了一定的成就。不过,在国内发半导体领域发展的过程之中,有一项技术却难住了大多数的企业,那就是EUV光刻机。作为芯片制造过程之中最为核心的一个环节,光刻机将会直接决定半导体芯片的性能以及功耗,可因为光刻机制造难度非常大,内部零件达到10万件之多,想要突破非常的困难。
在这样的情况之下,国内光刻机的突破工作被各大研究机构开始重视,中科院方面宣布将会投入大量的人力物力去攻克EUV光刻机的研发,而北大也发出论文,表示已经找到了EUV光刻机所需要的光源,但要知道,我们所做的不过只是冰山一角。
但这并不代表中国自主研发EUV光刻机没有希望,因为在光源这种核心技术中,我们完成自主化就可以了,很多零部件供应都可以采取进货的方式来获得。美国虽然对中国进行了一定的限制,但是要知道美国即便是再强势也不可能将这些限制有扩大到数万家企业,所以关于EUV光刻机供应链的问题,其实我们不需要太过于担心。

地位不保?

从这一点阿斯麦也逐渐意识到了。于是在上个月月初,阿斯麦CEO就曾经表示,如果依旧选择不供货给国内市场,那么在三年之内,中国就会掌握这门技术。5月27日,北大教授林毅夫关于国产光刻机正式宣布,按照以往的经验,如果中国真的掌握了光刻机技术,那么其生产成本一定会低于市场国际市场的价格,到那个时候,阿斯麦可能将会位置不保了。
这对于阿斯麦来讲,无疑是一个不好的消息。由于全球只有阿斯麦公司能够生产出EUV光刻机,所以靠着光刻机,阿斯麦公司最近几年赚得盆满钵满。可是如今在美国的限制之下,中国已经快要在EUV光刻机领域线突破,一旦中国突破了,那么将会打破阿斯麦公司在全球市场之中所形成的垄断地位,这对阿斯麦来讲,当然是一个不好的消息,只是这一次,没有人能够阻拦中国在EUV光刻机领域之中的突破,在这里也希望国内的光刻机能够早日实现突破,成功打破阿斯麦的垄断毁灭美国的幻想。

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