众所周知，在芯片制造过程之中光刻机的重要性毋庸置疑，好的光刻机能够决定芯片性能的好坏，而一台光刻机的制造难度非常大，每个零部件都需要进行上千万次的调试，才能够保证最后所生产出来的芯片良品率达到95%以上。
这就是为什么一直以来很少有国家能够干倒荷兰ASML，成为全球第一大光刻机厂商的最重要的原因之一。我们在这一领域之中是存在短板的，这一点是毋庸置疑的。不过除了在光刻机领域之外，在其他很多领域之中，我们也都是存在短板的，就比如说在刻蚀机领域上。
刻蚀机的工作原理是在真空的挤压之下，ICP射频元素产生的射频输出到环形耦合线圈，一定的比例混合刻蚀气体经耦合辉光放电产生高密度的等离子体，在下电极的Rf射频作用之下，这些离子体对于基片表面会进行轰击。基于图形区域的半导体材料的化学键被打破，与刻蚀气体发生生成挥发性的物质仪器题型是脱离基片，从真空管路被抽走。（以上文字来源于百度百科）
就光是从其工作原理上来看的话，就不难看出这种刻蚀机的技术壁垒还是非常高的。不过目前中国关于这种刻蚀机传来了好消息，中国刻蚀机巨头中微半导体的刻蚀机已经已正式应用于5纳米生产线，而更加先进的3纳米国产刻蚀机也带来了好消息。
在3纳米科学领域之中，为半导体完成了alpha原型机设计以及制造测试等等开发评估的工作。这台刻蚀机的诞生能够参与到此后先进高端芯片制造的产业链之中。而作为一家中国企业，能够成为全球客实际设备供应商巨头，中微半导体可以说是所有中国人的骄傲。
中微半导体在去年全球芯片制造设备行业之中都是数一数二的，截止到去年年底，中微半导体手中一共拿手持有1755项专利申请。可以说这种技术就连硅谷都想要窃取。其实早前中微半导体的创始人尹志尧是M国半导体公司的一位员工，后来尹志尧决定回国创业，并且带领六十多人的团队创建了如今的中微半导体。
当初第一台刻蚀机出来的时候，就被认为是窃取商业机密，而M国的公司也对其进行了诉讼，尹志尧坚持自主研发，最终结果当然是中微半导体没有侵权，美国公司败诉之后，中微半导体不断申请专利，而M国的维科公司却在设备生产之中侵犯了中微的专利。
一直以来，中微半导体都恪守市场规则，可是所谓树大招风，在十几年的发展历程之中，由于技术太过先进，所以不断被M国公司盯上。但是即便是在调查过百万份文件之后，都没有发现中微半导体有一丝侵权的地方。
如今的中微半导体越做越强，很多M国公司都离不开中微半导体，可以说作为半导体在一定领域这种已经达成了一定的垄断，而这些M国公司没有办法，最终只能选择与中微半导体和解。
就这样，中微半导体也获得了M国的开放市场，允许其在M国进行交易发展。而如今，凭借自身技术优势，中微半导体攻克了3纳米刻蚀机，领跑世界。虽然比起国际水准来讲，我们还存在一定的差别，但相信总有一天我们能够达到世界先进水准，而与过去的距差距也不过5~10年的差距。
作为一家中国企业，中微半导体的实力已经达到了世界顶级水准，这是让所有中国人都值得骄傲的一件事情。而在这些企业的带领之下，相信中国半导体一定能够迎来一个质的飞跃。终有一天，中国芯片将会实现完全的自主化生产，我们也再不需要依赖于国外的技术以及材料，真真正正的做到芯片自主化，芯片国产化。
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