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美半导体再改规则，大陆不得出现EUV光刻机，看都不能看了？

星星艾米丽

2021-11-22

导读：对于芯片代工厂商来说，光刻机是不可或缺的。全球缺芯问题的加重，大数据信息化时代的到来，人们对半导体芯片不断提

对于芯片代工厂商来说，光刻机是不可或缺的。全球缺芯问题的加重，大数据信息化时代的到来，人们对半导体芯片不断提高的需求量与芯片产能供不应求之间的矛盾，间接地抬高了光刻机的地位。特别是作用于7纳米及7纳米以下芯片代工制程的EUV光刻机。

因担心大陆半导体厂商发展太快，冲击到美国半导体在全球市场中的地位。美国半导体对芯片及半导体设备市场规则进行不公平修订。要求包含美国技术的高端设备，禁止出口到大陆供大陆厂商使用。

由于EUV光刻机制程复杂，且国产光刻机厂商起步较晚，因此美国的该条规定，阻碍了我国半导体厂商的发展。不过事情还没完，2021年11月20日消息，美国发布新规，规定EUV光刻机不能出现在大陆工厂中。

要知道，早先美国半导体只是要求ASML不得将EUV光刻机出口给我国，并没有对其它拥有EUV光刻机的厂商进行限制。也就是说，我们买不到ASML公司的EUV光刻机，但是拥有ASML公司EUV光刻机的企业，诸如三星、SK海力士能够在我国建设的子公司当中使用EUV光刻机。

但如今EUV光刻机连出现在大陆工厂中都不行了。要知道，三星、SK海力士等国外芯片巨头在我国投建的芯片代工厂，不论是技术、还是设备都是掌握在三星、SK海力士自己手中的。国产商使用三星、SK海力士的EUV光刻机更是不可能的事情。美国为什么要这样做呢？

答：促进自家半导体供给链技术的回流，阻碍国产半导体与国外厂商之间的交流、合作。拿苹果公司和特斯拉来我国建厂举例，尽管国外来我国建厂的主要目的是盈利，但一定程度上也能推动我国半导体产业链的发展。通过借鉴国外先进的管理、生产模式，改善国内生产链。有益于国产半导体产业的更快发展。

另外，国外来华建厂，一定程度上加重了国外对我国市场、供给链技术的依赖性。苹果、特斯拉、三星等国外芯片巨头便是一个很好的例子。但“近水楼台先得月”，对于这些外企来说，在我国建厂，也能够提高自身在我国市场中的影响力。美国担心三星、SK海力士后续会将建厂重心放在大陆市场。因此通过禁止EUV光刻机进入大陆境内的方式，来阻止三星、SK海力士的建厂规划。

要知道，美国为了吸引国外厂商来自家建厂，不惜拿出520亿美元用来补贴、鼓励芯片厂商来美国建厂。因为美国知道，论劳动力和供应链技术，以及市场环境，美国是比不过大陆的。因此，为了防止国外厂商来我国投建先进的工厂，美国下令EUV光刻机不得出现在大陆市场。

正如近期美国否决的英特尔在四川成都投建内存芯片代工厂一样。为了进一步阻碍我国半导体行业的发展，美国出此策略。美国颁布新规，也表明了美国对于EUV光刻机的态度，即坚决不允许大陆厂商使用EUV光刻机。

因此，我们要想在半导体领域中有更好的发展，趁早打消对国外光刻机的幻想，脚踏实地，埋头耕耘光刻机核心技术，才是正确的方向。得益于国家对半导体行业的扶持、引导，眼下我们在光刻机领域中获得了许多不错的成绩。

例如长春光机所成功攻坚光刻机光学物镜，完成了国产光刻机的最后一块拼图。此前长春光机所和上海光机所成功攻破EUV光源壁垒，推出了与ASML处于同一技术范畴的EUV光源。再加上华卓精科的双工件台技术，以及上海微电子步入投产的28纳米光刻机。相信日后国产半导体厂商一定能够攻坚光刻机核心技术壁垒。尽管时间可能会很长，但绝对值得。