稍微有些芯片知识的人都知道，要制造芯片，离不开光刻机；要制造高端芯片，离不开EUV光刻机。提到EUV光刻机，我们不得不提ASML，因为只有ASML能生产这种设备，所以才奠定了ASML垄断高端光刻机的市场地位。
很多人看到这里，可能会一头雾水。芯片、光刻机、EUV、ASML这都是什么东西啊？感觉是在看天书。为了让大家能对芯片业有一个基本的了解和认识，下面老王来简单解释一下这些名词。
名词科普
什么是芯片？其实它是半导体元件产品的统称。你也可以理解为我们常说的集成电路（英文缩写IC），或称微电路（microcircuit）、微芯片（microchip）、晶片（chip），在电子学中是一种将电路（主要包括半导体设备，也包括被动组件等）小型化的方式，并时常制造在半导体晶圆表面上。（来源：百度百科）
芯片这个东西在我们的生活中已经无处不在了，在电子产品领域哪里都有芯片的身影。比如我们平时使用的各种手机、电脑、机顶盒、电视机，还有很多人工智能产品等等都有芯片。我们随便拆开一个电子产品，可能都会看到一块绿色的板子，上面嵌满了各种各样的元器件，这块绿色板叫做PCB板，芯片就在这块PCB板子上，往往用一块散热器盖住。
从外形上看，芯片是一块小方块，它的制作材料是硅。就在这小小的一片小方块上，聚集着大量的晶体管、集成电路。芯片周围延伸出很多的管脚，每一根管脚都有自己的作用。
什么是光刻机？它又叫掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用的是类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。（来源：百度百科）
通俗易懂地说，光刻机就是在制造芯片时不可或缺的工具，没有光刻机就没有芯片。
什么是EUV？它是光刻机的一种，中文名称叫极紫外光源。我们先了解一下光刻机的分类，通常按照光源，可分为紫外光源（UV）、深紫外光源(DUV)、极紫外光源（EUV）。从UV到DUV再到EUV，光源波长越来越短，波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，对于精度控制要求也就越高，技术越来越先进。
了解了以上的知识，我们就不得不提起这个ASML公司。
ASML中文叫阿斯麦尔，它是荷兰一家全球最大的半导体设备制造商之一。它的牛逼之处就在于目前仅有ASML一家可提供可供量产用的EUV光刻机，其中TWINSCAN系列是世界上精度最高，生产效率最高，应用最为广泛的高端光刻机型。
全球独一份，服不服？英特尔、三星和台积电这些全球著名的芯片制造商，都得乖乖地去买ASML的光刻机，不然想造出高端芯片，门都没有！
但是，一台EUV光刻机的造价约为1.2亿，非常昂贵。苹果的A12处理器和华为麒麟980芯片就是采用该设备制造的。
ASML公司在全球45nm以下的高端光刻机市场中占有80%的份额，目前全球只有ASML可以生产7nm、甚至5nm精度的光刻机。
一匹黑马突然杀出
而正当ASML捧着自己的金饭碗洋洋得意时，突然传出爆炸性消息，日本企业铠侠开发出了新型半导体工艺，这种新工艺不需要EUV，或者说可以绕开EUV而采用其他方法制造高端的7nm、甚至5nm的芯片。
据了解，这项技术就是日本铠侠研发的纳米压印微影技术（NIL）。日本铠侠公司于2017年开始研发这项技术，目前已经实现15nm芯片量产技术，接下来还在继续研发15nm以下工艺，它的目标就是5nm芯片，预计2025年实现。
如果一旦证实了这套新工艺的可行性，恐怕整个半导体行业会出现新的市场格局，这将会改写整个芯片行业的发展。
NIL技术对全球芯片业的影响
那NIL技术一旦成功将会对整个芯片制造业产生哪些影响呢？
1、将打破ASML的EUV光刻机垄断地位
恐怕ASML想破脑袋也没料到，ASML引以为傲的EUV光刻机再也不是全球独家生意了。一旦将来不用EUV光刻机也能够生产出高端芯片，可以预料到会冲击ASML的市场地位产生多么严重的冲击，这势必打破ASML在EUV光刻机上的垄断地位。
2、提供下一个芯片时代的新思路
NIL技术的出现很可能会改变现有的半导体生产模式。因为想要突破比5nm更精密的制程工艺，仅凭现有的材料和技术可能无法做到，所以我们不得不寻找新材料新工艺，这就为下一个芯片时代的到来提供了新思路。
3、将大幅减少生产设备成本
对比NIL技术和EUV技术，NIL可以带来更降低能耗，减少生产设备成本。一台EUV光刻机造价1.2亿美元，而NIL技术可以减少40%的设备投资成本，并降低10%的耗电量。
其次NIL电路精细程度可和5nm相媲美，达到和EUV几乎一致的精密程度。
基于以上三点，可以想象，在不久的将来，芯片行业将会迎来一次新技术革命，这将让全球的芯片制造迈入一个新时代。
中国芯片发展状况
我国在芯片制造尤其是高端芯片方面一直都相对落后，长期以来都是制约我们的卡脖子技术。说到底，就是EUV光刻机！尽管是荷兰ASML能够生产EUV光刻机，但它自己也做不了主，受漂亮国的限制不允许轻易卖给我们。
而让人欣慰的是，2021上半年，我国中芯国际冲破重重封锁，耗资1.2亿购得ASML的7nm的EUV光刻机。
而且近日，我国的光刻机研发又取得一项新突破，长春光机所成功突破了光刻机核心部件“光学投影物镜”制造关键技术，它可是制造EUV光刻机的最核心的四大模块之一，它的突破将使我们的国产EUV光刻机更进一步。
经常会听见有人说，没有任何一个国家可以单独制造出EUV光刻机。ASML也曾放言，即使给我们图纸我们也造不出EUV光刻机。但是，按目前我国的科技发展速度，恐怕要让他们失望了，可能用不了多少年我们就一定会有所突破，或许我们也将找到绕过EUV的新工艺，这将彻底解决我国高端芯片卡脖子的问题！
我相信，只要我们全国人民上下一心，没有我们中国人办不到的事！
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