
第一作者:Xiaotong Li、Qian Liu、Jianghao Wang
通讯作者:吴浩斌
通讯单位:浙江大学
DOI: 10.1016/j.chempr.2022.04.004

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由于Cu催化剂上C–C偶联过程的低效性,电化学CO2还原制备高附加值多碳产物的性能一直受到限制。将金属氧化物与Cu表面耦合可以打破标度关系,从而有效调节Cu上的产物分布。在本文中,作者通过研究表明金属氧化物能够稳定吸附的CO2∗/CO∗,并降低C–C偶联过程的吉布斯自由能,从而促进氧化物修饰Cu电极上C2+产物的形成。作为代表,经由ZrO2修饰的Cu (Cu/ZrO2)电极表现出高达85%的C2+产物法拉第效率。原位表面增强拉曼光谱证明出Cu/ZrO2电极上的CO∗吸附增强,理论计算揭示出Cu/ZrO2界面处C-C偶联过程的能垒降低。该研究深入探究了金属氧化物异质结构电催化剂的结构-性能关系,并有效促进电催化CO2还原制备高附加值产品。

背景介绍
由可再生电力驱动的电化学CO2还原反应(CO2RR)可以通过将CO2转化为高附加值化学品和燃料以关闭人为碳循环,并将多余的电力储存为化学能。理论上,CO2RR过程可以得到各种各样的产物,其中含有C–C键的碳氢化合物(表示为C2+产物)具有高能量密度和价值。迄今为止,铜(Cu)是最主要的电催化剂以生产C2+产物,包括乙烯(C2H4)、乙醇(C2H5OH)、正丙醇(C3H7OH)等。通过选择性地稳定关键中间体来促进C–C偶联过程,对于提高C2+产物的选择性至关重要;然而,该选择性通常受到标度关系的阻碍。
构筑异质结构Cu-氧化物界面可以通过调控特定中间体的吸附能以打破标度关系,从而有效调节产物分布。例如,具有丰富Lewis酸位点的Al2O3可以促进CO2分子的活化,并提高Cu/Al2O3异质结构催化剂上CO2电还原制CH4的选择性;而Cu-SiOx界面则通过降低OCOH∗和OCCOH∗的形成能垒以提高C2H4的选择性。由于具有不同的表面/界面结构,基于Cu和铈氧化物/氢氧化物的异质结构催化剂表现出不同的产物分布。尽管上述研究均强调Cu-氧化物界面对CO2RR的影响,但异质结构与产物选择性,尤其是高附加值C2+产物之间的相关性,仍未得到深入的研究。
在本文中,通过结合实验与理论研究,作者发现CO2吸附增强的金属氧化物耦合Cu表面可以通过Lewis酸碱相互作用促进CO2分子的活化,并提高CO2RR的催化活性。此外,Cu-氧化物界面还表现出不同的CO∗吸附强度和反应能垒用于C-C偶联,因此具有不同的C2+产物选择性。在所有被筛选的Cu/氧化物异质结构体系中,Cu/ZrO2对C2+产物表现出最佳的催化活性。该Cu/ZrO2异质结构电极是通过在Cu箔上涂覆ZrO2纳米颗粒,随后原位重构Cu表面以形成稳定的Cu-ZrO2界面来实现的。原位表面增强拉曼光谱表明Cu/ZrO2电极上具有增强的CO∗吸附和覆盖率,与理论预测的结果一致。密度泛函理论(DFT)计算还表明,与纯Cu表面相比,Cu-ZrO2界面上的C–C偶联过程更为有利,同时主要竞争反应如C1途径(如CH4的形成)则受到抑制。所制备出的Cu-ZrO2电极表现出高达85%的C2+产物(即乙烯、乙醇和正丙醇)法拉第效率(FE),并且在H型电解槽中可以稳定运行超过66 h,远优于此前报道的其它Cu基催化剂/电极。

图文解析
图1. Cu/氧化物催化剂与CO2RR性能的相关性:(a) CO2∗在Cu和各种氧化物表面的吸附能(EadsCO2∗);(b)Cu和Cu/氧化物电极在−1.05 V电位下的H2, C1, C2+产物FEs;(c)Cu和Cu/氧化物催化剂上CO2∗吸附能的CO2RR部分电流密度(jCRR)之间的关系;(d)Cu和Cu/氧化物催化剂上CO∗至OCCO∗的ΔG值与C2+产物FEs之间的关系。
图2. Cu-ZrO2电极的合成与表征:(a)异质结构Cu-ZrO2催化剂的合成过程示意图,其中红色、灰色、白色、绿色和橙色的球体分别代表氧、碳、氢、锆和铜;(b) Cu箔, (c) Cu/ZrO2, (d) Cu-Cu2O,(e) Cu/ZrO2-2-0.05在CO2RR过程前的SEM图;(f-h) Cu/ZrO2-2-0.05在CO2RR过程前的FIB-SEM图及对应的EDS元素映射图;(i)Cu箔, Cu-Cu2O-4,在CO2RR过程后从Cu/ZrO2-4中提取出的Cu-Cu2O-4, ZrO2的XRD表征;(j)图i部分的放大图;(k)Cu-Cu2O在CO2RR过程前的非原位Cu LMM俄歇电子能谱(AES)。
图3. Cu-ZrO2电极的电化学CO2RR性能:Cu和Cu/ZrO2电极的(a)总电流密度(jtotal)和C2+产物部分电流密度(jC2+),(b)C2+产物的FEs与阴极电位的关系;(c)不同ZrO2负载量下,Cu-ZrO2-X样品在−1.05 V电位下的C2+产物FEs与jC2+值;(d)Cu, Cu/ZrO2(缩写为C/Z), Cu-Cu2O (CC), CC/Z, Cu@ZrO2(C@Z), ZrO2催化剂在−1.05 V电位下的H2, C1, C2+产物FEs值;(e)Cu/ZrO2电极在−17.2 mA cm−2电流密度下的计时电位曲线,以及对应的C2+产物FEs值;(f) Cu/ZrO2与此前报道Cu基催化剂在相同条件下的总FE、C2+产物部分电流密度和稳定性对比。
图4. Cu-ZrO2界面结构及界面效应的研究:Cu/ZrO2在(a,b) CO2RR过程前和(c,d)于−1.05 V电位下CO2RR过程1 h后的(a,c) TEM图和(b,d)HR-TEM图;Cu/ZrO2,Cu@ZrO2, Cu箔, Cu2O/CuO纳米颗粒的(e)Cu K-edge XANES光谱,(f)傅里叶转换Cu K-edge EXAFS光谱;(g)Cu/ZrO2, Cu@ZrO2, Zr箔和ZrO2纳米颗粒的Zr K-edge XANES光谱;(h)Cu/ZrO2-8-0.5, (i) Cu-Cu2O-8, (j) Cu在CO2饱和的0.1 M KHCO3中于不同电位下的原位表面增强Raman光谱。
图5. Cu/ZrO2电极上CO2RR过程的DFT计算:(a) CO2生成OCCOH∗的反应Gibbs自由能;(b) OCCO∗在Cu和Cu-ZrO2异质结构上的优化构型和结构信息;(c) CO2生成COH∗的反应Gibbs自由能;(d) CO2生成OCCOH∗和CO2生成2COH∗的反应Gibbs自由能比较。

总结与展望

文献来源
Xiaotong Li, Qian Liu, Jianghao Wang, Dechao Meng, Yijin Shu, Xiangzhou Lv, Bo Zhao, Hao Yang, Tao Cheng, Qingsheng Gao, Linsen Li, Hao Bin Wu. Enhanced electroreduction of CO2 to C2+ products on heterostructured Cu/oxide electrodes. Chem. 2022. DOI: 10.1016/j.chempr.2022.04.004.
文献链接:https://doi.org/10.1016/j.chempr.2022.04.004
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