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南理工狄俊教授团队ACB: 通过Cu-S空位缔合体打破对称性增强局部极化场以提升近红外驱动的光催化合成氨性能

南理工狄俊教授团队ACB: 通过Cu-S空位缔合体打破对称性增强局部极化场以提升近红外驱动的光催化合成氨性能 邃瞳科学云
2024-12-11
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导读:本研究通过简单的溶剂热反应合成了具有不同Cu-S空位缔合体浓度的CuIn2S4原子层。CuIn2S4原子层在很宽的光谱范围内表现出光响应,并在近红外光学波段表现出良好的响应特性。


第一作者:梁慧敏,叶财超,吴尧

通讯作者:狄俊,姜炜,熊君

通讯单位:南京理工大学,江苏大学

论文DOI:10.1016/j.apcatb.2024.124776




全文速览
空位缔合体在光催化中的作用仍是一个未解问题。在此,我们开发了具有Cu-S空位缔合体的CuIn2S4原子层,以研究空位缔合体对光催化硝酸根到氨转化的影响。引入的Cu-S空位缔合体提高了CuIn2S4在红外区域的光吸收强度。同时,它还能在CuIn2S4中产生一种对称性破缺结构,从而形成差异化电荷再分布的表面原子结构,并形成局部极化中心。这种独特的构型使电荷密度梯度得以形成,有利于电荷的定向转移和NO3-的极化,有助于实现优异的光催化合成氨性能。在紫外可见光和近红外光照射下,富含Cu-S空位缔合体的CuIn2S4通过 NO3-还原生成NH3的速率分别达到975.9和583.9 μmol g-1 h-1,在380、400、450、500、550、650、700、800、850、1064 nm处的表观量子效率分别为15.87 %、11.2 %、7.83 %、7.12 %、5.33 %、4.15 %、3.62 %、0.93 %、0.54 %、0.34 %。具有不对称电荷分布的Cu-S空位缔合体的构建增强了与反应中间体的非共价相互作用,并有效降低了决速步的能垒。这项研究为了解Cu-S空位缔合体在光催化合成氨过程中的重要作用提供了新的视角。



背景介绍
氨是世界上最重要的工业合成化学品之一。合成氨工业中的哈伯-博世反应需要高温高压条件,需要大量的能源消耗。如何降低能耗,提高能源利用效率,是工业合成氨技术面临的重要课题。近年来,光催化、电催化和生物催化等新技术在合成氨中得到了发展,其中光催化合成氨具有太阳能利用清洁、反应条件温和等优点。要提高光催化合成氨的效率,核心在于如何设计高效稳定的催化剂。

大多数二维纳米材料只能对紫外光或可见光产生光响应。然而,近一半的太阳能是由近红外光组成的,而这部分能量仍未得到充分利用。因此,开发能够利用近红外光的二维纳米材料具有重要意义。缺陷工程通过改善光催化剂的电荷分离和提供活性位点,可以显著提升光催化性能。通过捕获光生电荷载流子,缺陷改变了催化剂表面的电子结构和化学性质,从而影响反应速率和选择性。此外,缺陷还可以扩展催化剂的光吸收范围,提高光能利用率。

在这项工作中,首次采用溶热法合成了近红外光响应的CuIn2S4(CIS)原子层。在引入Cu-S空位缔合体后,形成了对称破缺结构,创造了差异化电荷再分布的表面原子态,并在CIS原子层中形成了局部极化中心。Cu-S空位缔合体可以促进电子定向迁移,有利于电荷载流子的高效分离和转移。此外,由丰富的空位缔合体调节的CIS原子层显示出较小的决速步能垒,从而提高了光催化合成NH3的活性。



本文亮点

(1) 首次合成了CuIn2S4原子层。引入的Cu-S空位缔合体提高了CuIn2S4在红外光区域的光吸收强度。这是首次构建Cu-S空位缔合体并研究近红外驱动光催化的性能。

(2) Cu-S空位缔合体在CuIn2S4中形成了对称破缺结构,导致差异化电荷再分布的表面原子结构并形成局部极化中心。这种独特的配置能够形成电荷密度梯度,有利于定向电荷转移和NO3-极化。

(3) 富含Cu-S空位缔合体的CuIn2S4上的NH3生成速率达到975.9 μmol g-1 h-1,在380、400、450、500、550、650、700、800、850、1064 nm处的表观量子效率分别为15.87 %、11.2 %、7.83 %、7.12 %、5.33 %、4.15 %、3.62 %、0.93 %、0.54 %、0.34 %。



图文解析

Figure 1. (a) Illustration of the formation process of VCu-S tuned CIS atomic layers, (b-e) HAADF-STEM images and (i) EDS elemental mapping of VCu-S rich CIS atomic layers, (f-h) HAADF-STEM images and (j) EDS elemental mapping of VCu-S poor CIS atomic layers.
由于具有面心立方结构,CIS显示出均匀的原子分布和对称的晶体结构。然而,这种结构缺乏必要的局部不对称性,无法促进电子迁移到表面。因此,需要在CIS原子层中加入Cu-S空位缔合体,以构建对称破缺结构。在这项工作中,通过温度调节溶剂热法制备了不同Cu-S空位缔合体浓度的CuIn2S4原子层(图1a)。较低的合成温度会导致结晶度较低,从而使Cu-S空位缔合体的浓度增加。通过高角环形暗场像扫描透射电子显微镜(HAADF-STEM)研究了CuIn2S4原子层的精细原子结构(图1b-j)。富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层厚度约为1-2 nm,含有丰富的点缺陷和位错,而缺乏Cu-S空位缔合体的CIS原子层则显示出有序的原子排列和平滑的表面。STEM图谱结果表明,Cu、In、S元素分布均匀。

Figure 2. (a) Synchrotron radiation In K-edge XAFS, (b) EXAFS spectra of In K-edge. The corresponding EXAFS R-space fitting curves of (c) VCu-S rich CIS and (d) VCu-S poor CIS. Wavelet transform of (e) VCu-S rich CIS and (f) VCu-S poor CIS. (g) Positron annihilation lifetime spectra of VCu-S poor CIS and VCu-S rich CIS. Schematic representations of trapped positrons of (h) VCu-S poor CIS and (i) VCu-S rich CIS, respectively.


Table 1. Results of positron annihilation lifetime parameters for VCu-S rich CIS and VCu-S poor CIS.

为了全面了解CIS原子层的表面原子构型和缺陷结构,进行了同步辐射X射线吸收精细结构谱(XAFS)分析(图2)。XAFS结果显示,富含Cu-S空位缔合体的CIS和缺乏Cu-S空位缔合体的CIS在S 的L边和In 的K边的吸收峰存在明显差异,这些差异反映了Cu-S空位缔合体的影响。此外,正电子湮灭寿命谱(PAS)进一步确认了缺陷类型和相对浓度(图2g-i,表1)。最大分量(τ3 > 1.5 ns)归因于材料中的大孔隙,最小分量(τ1)归因于单空位(如S空位),而中间分量(τ2)归因于较大缺陷(如Cu空位簇)捕获的正电子。在富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层中,τ2约为360 ps,对应于Cu-S空位缔合体捕获的正电子。富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层的相对浓度(I2/I1)为1.54,远高于缺乏Cu-S空位缔合体CIS原子层的1.07,表明前者中的Cu-S空位缔合体浓度较高。

Figure 3. (a) Photoreduction of N2 into NH3 over VCu-S rich CIS and VCu-S poor CIS. (b) Photoreduction of NO3- into NHover the VCu-S rich CIS and VCu-S poor CIS under UV-visible light irradiation. (c) Cycling test over VCu-S rich CIS for NO3- reduction. (d) Photoreduction of NO3- into NH3 over the VCu-S rich CIS and VCu-S poor CIS under near infrared light irradiation. (e) Apparent quantum efficiency of VCu-S rich CIS atomic layers. (f) Mass spectra of 15N. Ultrafast transient absorption spectroscopy of (g, h) VCu-S rich CIS and (i) VCu-S poor CIS.
通过光催化N2还原和NO3还原评估了CIS原子层的光催化性能(图3a-e)。富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层表现出更高的NH3生成速率,分别为55.9 μmol g-1 h-1(N2还原)和975.9 μmol g-1 h-1NO3还原),远高于缺乏Cu-S空位缔合体的CIS原子层。此外,在近红外光照射下,富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层的NO3还原生成NH3速率仍能达到583.9 μmol g-1 h-1。经过多次循环测试,其活性和结构稳定性均表现良好。此外,该材料在全光谱范围内表现出良好的表观量子效率,分别为15.87%、11.2%、7.83%、7.12%、5.33%、4.15%、3.62%、0.93%、0.54%和0.34%。为了追踪所形成的NH3的N源,进行了15N同位素标记实验。如图3f所示,1H NMR谱中可以看出生成的NH3来自硝酸盐原料。

通过飞秒超快瞬态吸收(TA)光谱研究了CIS原子层中光生电子的动力学行为。双指数拟合结果显示,富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层具有较大的τ1和τ2值,表明其具有更多的电子俘获态和长寿命电子。此外,富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层表现出显著的表面电荷再分布状态,形成极化中心,产生电荷密度梯度,促进载流子定向迁移,从而提高电荷分离效率。为了深入了解电荷的定向迁移,计算了富含Cu-S空位缔合体的CIS和缺乏Cu-S空位缔合体的CIS的静电势。结果显示,富含Cu-S空位缔合体的CIS的表面电势比内部电势高出约2.7 eV,而缺乏Cu-S空位缔合体的CIS的表面和内部电势较为相似。引入的Cu-S空位缔合体打破了CIS的对称性,形成了差异化电荷分布和局部极化中心,导致形成电势差,从而诱导内层电子向外层定向迁移,显著延长载流子寿命。

Figure 4. DFT calculated diagram of crystal structure, electrostatic potential of (a) VCu-S poor CIS, (b) VCu-S rich CIS. The charge density difference of NO3adsorption on (c) VCu-S poor CIS, (d) VCu-S rich CIS (Light blue represents a decrease in charge density, yellow represents an increase in charge density. The isosurface level is 0.005 e/A3). Electron localization function of NOH adsorbed on (e) VCu-S poor CIS, (f) VCu-S rich CIS (The isosurface level is 0. 50). (g) Free energy diagrams of NO3- photoreduction to NHfor VCu-S poor CuIn2S4 (blue line) and VCu-S rich CuIn2S4 (red line).
通过DFT计算和差分电荷密度研究了NO3-在富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层和缺乏Cu-S空位缔合体的CIS原子层上的吸附过程。结果显示,富含Cu-S空位缔合体的CIS原子层中的NO3-吸附更强,电子转移更多。DFT计算表明,富含Cu-S空位缔合体的CIS表面的NO3-解离能垒更低(-1.23 eV vs -0.74 eV),且限速步(NO还原成NOH)的能垒仅为0.89 eV,低于缺乏Cu-S空位缔合体的CIS原子层表面的1.66 eV。Cu-S空位缔合体有效稳定了NOH中间体,削弱了缺陷周围S原子的电负性,加强了S-NOH的非共价相互作用,降低了NOH中间体的吸附能垒。



总结与展望
总之,我们通过简单的溶剂热反应合成了具有不同Cu-S空位缔合体浓度的CuIn2S4原子层。CuIn2S4原子层在很宽的光谱范围内表现出光响应,并在近红外光学波段表现出良好的响应特性。Cu-S空位缔合体的形成在CIS原子层表面产生了电荷分布不对称的极化中心,有利于提高表面电荷分离效率,载流子寿命从缺乏Cu-S空位缔合体的CIS原子层的23.55 ps增加到富含Cu-S空位缔合体的CIS 原子层的592.51 ps。DFT 计算结果表明,Cu-S空位缔合体增强了与反应中间体之间的非共价相互作用,降低了决速步能垒。在380、400、450、500、550、650、700、800、850、1064 nm处的表观量子效率分别为15.87%、11.2%、7.83%、7.12%、5.33%、4.15%、3.62%、0.93%、0.54%、0.34%。这项工作揭示了Cu-S空位缔合体在光催化合成氨反应中的重要作用。



文献信息
H. Liang, C. Ye, Y. Wu, J. Xiong*, P. Zhang, X. Cao, G. Hao, W. Jiang*, J. Di*, Symmetry breaking by Cu-S vacancy associates creating localized polarization field with enhanced near-infrared-driven photocatalytic ammonia synthesis. Applied Catalysis B: Environment and Energy 362 (2025) 124776.
https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2024.124776



作者介绍
第一作者:梁慧敏,南京理工大学大学硕士研究生。

第一作者:叶财超,南方科技大学副研究员。

第一作者:吴尧,南洋理工大学博士。
 

通讯作者:姜炜,南京理工大学教授、博士生导师,万人计划领军人才,军委国防科技卓越青年人才,中青年科技创新领军人才。主要从事高性能微纳米功能复合材料研究,在AFM、JMCA、CEJ、Nanoscale等国际权威期刊发表SCI论文150余篇,主持国家高新工程专项、基金委叶企孙联合基金重点项目等20余项。获国家技术发明二等奖2项,国防科技创新团队奖1项,国防技术发明二等奖1项。
 

通讯作者:狄俊,南京理工大学教授、博士生导师,国家海外高层次青年人才,江苏省特聘教授(重点资助),先后入选爱思唯尔“中国高被引学者”榜单、全球前2%顶尖科学家榜单(终身影响力)、全球顶尖前10万科学家榜单。主要从事二维材料设计、能源光催化技术、二氧化碳资源化利用以及环境污染物控制技术的研究。发表SCI论文160篇,其中第一作者/通讯(共同)论文90篇,包括Nature Commun., Coord. Chem. Rev. (2篇), Angew. Chem. Int. Ed., Mater. Today (2篇), Adv. Mater. (4篇), Adv. Energy Mater.等。先后入选ESI高被引论文18篇,ESI热点论文4篇,入选封面论文8篇。论文共计被引15000余次,H因子67。

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