本文将对光刻工艺、光刻机核心组件、光刻机市场概况、国内重点供应链厂商等概况进行梳理，以供参考。
一、光刻工艺
光刻工艺是芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节。芯片制造流程可分为芯片设计、前道工序（芯片制造）和后道工序（封测）三个环节。前道工序是芯片产业链的核心环节，包括扩散、薄膜、光刻、刻蚀、离子注入、化学机械抛光（（CMP）、金属化、量测等工序，通过层层往上叠的芯片制造流程，最终将芯片设计公司设计好的电路图移植到晶圆上，并实现预定的芯片电学功能。其中光刻工艺是芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节，光刻技术水平直接决定了芯片的最小线宽，定义了半导体器件的特征尺寸，直接决定芯片的制程水平和性能水平，先进技术节点的芯片制造需要60-90步光刻工艺，光刻成本占比约为30%，耗费时间占比约为40-50%。
光刻的核心工具包括光掩膜、光刻机和光刻胶。光刻工艺是指利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩（掩模版）对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而将光罩上得图形复印到晶圆上，使晶圆具有电子线路图的作用。光刻的核心工具包括光掩膜（（如同芯片的蓝图，上面印有每一层结构的图案）、光刻机（（像一把精确的画笔，能够引导光线在光刻胶上刻画出图案）和光刻胶（一种特殊的感光材料，通过光刻过程在光刻胶上形成图案，进而构建出三维结构）。
二、光刻机核心组件光源、照明系统、投影物镜概况
光刻机是芯片制造的核心设备，主要由光源系统、照明系统、曝光物镜系统、对准系统、硅片传输系统、环境控制系统、计算机控制系统等部分组成。其中光源系统、照明系统、曝光物镜系统为核心组件。
（一）光源
为光刻提供能量，不同制程和芯片类型需匹配特定光源。光源主要为光刻提供能量，光源发出的光束经照明系统后穿过掩膜版，再由投影物镜系统将掩膜版上的电路图形复制到硅片表面。对应不同制程和芯片类型，光源有所不同，常见光刻光源包括汞灯（g-line、i-line）、准分子激光（KrF、ArF）和极紫外光（EUV）。ASML 光源供应商主要为Cymer（2013 年被ASML 并入）、日本Gigaphoton 公司，其中ASML 的EUV 光源为Cymer 独家供应。
1）汞灯（g/i 线）：汞灯是一种气体放电灯。在汞灯内部，充有汞蒸气和少量其他气体（如氩气）。当灯两端电极加上高电压时，电子在电场作用下加速运动，与汞原子发生碰撞。汞原子吸收能量后从基态跃迁到激发态，激发态不稳定，会向低能级跃迁并辐射出光子。g-line 光源波长为 436nm，i-line 光源波长为 365nm，这些特定波长的光就是汞原子在特定能级跃迁过程中产生的。通过对汞灯的气体成分、气压、电极材料和形状等进行优化设计，可以提高特定波长光的输出效率和稳定性。
2）准分子激光（KrF、ArF）：准分子激光是一种受激辐射产生的激光光源。以KrF激光器为例，工作物质是氪（Kr）和氟（F）混合气体。放电过程中，电子与Kr和F分子相互作用，形成激发态 KrF 准分子。准分子是一种在激发态下才能稳定存在的分子，处于激发态的 KrF 准分子在回到基态时，会发射出波长为248nm的激光。ArF 激光器原理类似，通过放电使氩（Ar）和氟（F）混合气体形成激发态的ArF准分子，发射出波长为193nm的激光。
3）极紫外光（EUV）：极紫外光光源产生技术难度高。目前主流的EUV光源产生方法是激光等离子体（LPP）技术。光源主要由主脉冲激光器、预脉冲激光器、光束传输系统、锡液滴靶、锡回收器、收集镜等构成。在LPP系统中，高功率的脉冲激光聚焦在微小的锡（Sn）液滴靶上。激光能量使锡液滴迅速加热、蒸发并电离，形成高温高密度的等离子体。等离子体中的电子在复合过程中会辐射出波长为13.5nm 的极紫外光。
（二）照明系统
对光源发出的激光进行扩束，确保光照的均匀性和强度，同时提供特定的照明模式以适应不同的工艺需求。该系统主要包含传输光路、光束矫正器、光束整形装置、能量探测与计量控制系统、照明均匀器以及掩模光阑等组件。通过这些组件的协同作用，照明系统能够有效地提高光刻质量，确保每一片硅片上的曝光效果一致。
1） 光线扩束与传输单元：对光源进行扩束、传输、稳定及透过率控制。
2）光束整形装置：光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式，从而实现分辨力增强，获得更好的成像性能。高分辨率投影光刻机照明系统中主要包括基于衍射光学元件（（DOE）、微透镜阵列（（MLA）和微反射镜阵列（（MMA）的3种光瞳整形技术。
3） 光场匀化单元：用于生成特定强度分布的照明光场，在非扫描方向上照明光场为 均匀分布，在扫描方向上为梯形分布或平顶高斯分布，其作用是减小扫描曝光过 程中的激光脉冲量化误差，获得更均匀的曝光剂量。
4）扫描狭缝：共面式扫描狭缝单元主要由置于同一平面的4个相互正交的刀片及驱动部件组成。当4 个刀片形成的狭缝面与光轴垂直时，4个方向上的刀片在掩模面或硅片面上形成的刀口半影一致，且单个刀片在掩模面或硅片面内的不同位置处形成的刀口半影也一致。
5）中继镜：分为前组、后组和反射镜，通常包含7-12 个透镜，负责将扫描狭缝上的照明光场成像到掩模面上，实现照明系统与投影物镜的衔接，且不仅需要满足不同光瞳大小和环宽的照明模式需求，并且要尽量减少照明光场不均匀性在中继过程中的恶化。
（三）投影物镜
精准成像的关键。投影物镜的作用是将经过掩模版图案后的衍射光收集并聚焦至晶圆表面的光刻胶上，是影响数值孔径的关键，根据NA=n*sinα，物镜直径越大， sinα越大，数值孔径越大，但随着直径变大，透镜本身特性所导致的各种像差问题也会 越明显，常见像差主要包括球差、彗差、象散、场曲、畸变、色差。
1）球差：球差是轴上点的单色相差，是由于透镜的球形表面造成的，球差造成一个 点成像后，不在是个亮点，而是一个中间亮边缘逐渐模糊的亮斑。从而影响成像 质量。可通过使用凸、凹透镜组合来消除。
2）色差：不同颜色（即不同波长）的光在同一光学介质中的折射率不同而引起的像差。可通过加入滤光片消除。
3）彗差：属轴外点的单色相差。轴外物点以大孔径光束成象时，发出的光束通过透镜后，不再相交一点，光点型如慧星，故称"慧差。可使用轴向平行光消除。
4）象散：影响清晰度的轴外点单色相差，当视场很大时，边缘上的物点离光轴远，光束倾斜大，经透镜后则引起象散。象散使原来的物点在成象后变成两个分离并且相互垂直的短线，在理想象平面上综合后，形成一个椭圆形的斑点。通过复杂的透镜组合来消除。
5）场曲：当透镜存在场曲时，整个光束的交点不与理想象点重合，虽然在每个特定点都能得到清晰的象点，但整个象平面则是一个曲面。这样在镜检时不能同时看清整个相面，给观察和照相造成困难。
6）畸变：光束的同心性不受到破坏，不影响象的清晰度，但象与原物体比，在形状上造成失真。
投影物镜结构类型主要包括全折射型、折反射型、全反射型。由于单片镜片存在像差、球差等问题，投影物镜多采用组合镜片进行纠正，DUV 光刻机物镜多采用折射式设计（（即镜片均为透镜），随着技术演进向浸没式，镜片组中也会加入反射镜，镜片组中同时包含透镜与反射镜，以实现相同条件下更大数值孔径，进入EUV 领域，由于EUV 使用的波长为13.5nm，该波段的光几乎没有光学材料可以透过，只能采用全反射式进行设计。
三、光刻机市场概况
2024年全球光刻机设备市场规模预计达315亿美元，是市场占比最大的细分设备。据世界半导体贸易统计协会数据，2024年全球半导体市场规模为6280亿美元，同比增长19.1%，ASML预测2030年行业规模将突破万亿美元，伴随半导体行业的持续上升，设备作为基础，市场规模随半导体行业周期上行而持续增长，光刻机设备作为半导体设备核心细分，根据中商产业研究院数据，2024年全球光刻机市场规模将增至315亿美元。
全球光刻机出货量持续提升。ASML、Canon、Nikon 三大光刻机供应商出货量稳步提升，2021年三者集成电路用光刻机出货量为478台，2022年增长到551台，涨幅15%；2023年全球半导体IC光刻机总出货量为681 台，其中ASML 处于主导地位。从EUV、ArFi、ArF 三个高端机型的出货来看，2021年共出货152台；2022年出货157台，增长3.3%，其中ASML出货149台，占据95%市场份额；Nikon出货8台，占据剩余5%的市场份额。
目前，全球光刻机的销量主要集中在中低端产品（如KrF 和 i-Line）。它们的市场份额分别为37.9%和 33.6%。其次，ArFi、ArFdry 和EUV的市场份额分别为15.4%、5.8% 和7.3%。其中，EUV光刻机作为全球光刻机发展的重要方向之一，其价格显著高于其他类型的光刻机。
ASML 在高端光刻机市场占据主导地位。根据 ASML 2024 年财报数据，各类光刻机收入 占比中，EUV机型贡献了39.39%，ArFi 机型占比45.76%。由于EUV和ArFi作为高端设备，单价较高，成为ASML主要的收入增长来源。从光刻机种类来看，ASML是全球唯一的EUV光刻机供应商，具有绝对的垄断优势，2024年首次交付新设备EXE（（High NA EUV）2台，引领光刻机走向新时代。从产品单价来看，EXE产品ASP为2.33亿欧元，NXE为1.87亿欧元，Arfi产品ASP为0.75亿欧元。
中国为半导体设备最大市场，光刻机需求量较大。中国大陆是最大的半导体设备市场，同时也是ASML 的最大客户之一，2024 年ASML 在中国大陆营收为101.95 亿欧元，占比36.1%，2023年中国大陆营收占ASML全部营收比为26.31%，2024年增长至36.07%。
国产光刻机空间广阔、任重道远。光刻机国内供不应求，根据智研产业研究院，2023 年 我国光刻机产量为124 台，需求量为727 台，供需关系严重不匹配，本土厂商供给能力有待加强。上海微电子是目前中国第一家也是唯一一家光刻机巨头，具备90nm 及以下的芯片制造能力。近年来，在国家政策支持下，国内企业加速研发突破光刻机制造技术，目前国产光刻机在90nm 及以下工艺节点方面取得了重要进展。例如，上海微电子自主研发的600 系列光刻机已实现90nm 工艺的量产，并正在进行28nm 浸没式光刻机的研发工作。根据公开数据，上海微电子光刻机出货量占国内市场份额的比例已超过80%。整体来说，目前我国光刻机行业国产化率仅为2.5%，整机技术仍与海外存在差距较大。数据显示，2023 年我国进口光刻机数量高达225 台，进口金额高达87.54 亿美元，进口金额创下历史新高，且预计在未来3-5 年内，我国光刻机仍将主要依赖于进口。
四、国内重点供应链厂商
（一）上海微电子
上海微电子2002 年在张江高科技园区正式成立，2009年12月首台先进封装光刻机产品 SSB500/10A 交付用户，2016年6月首台暨国内首台前道扫描光刻机交付用户，2017年4月公司承担的国家02重大科技专项任务“浸没光刻机关键技术预研项目”通过了国家正式验收，2017年 10 月公司承担的 02 重大科技专项“90nm 光刻机样机研制”任务通过了02专项实施管理办公室组织的专家组现场测试，2018年3 月90nm 光刻机项目通过正式验收，公司作为国内光刻机整机制造厂商，引领国内光刻机制造发展。公司光刻机产品可用于平板显示、先进封装、新型化合物半导体器件、MEMS 和集成电路前道芯片制造环节，其中SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术，以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术，可满足 IC 前道制造 90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求，可用于8寸产线或12寸产线。
（二）国科精密
国科精密成立于2014年8月，前身为中国科学院长春光学精密机械与物理研究所超精密光学工程研究中心。公司专注于光刻机投影物镜系统、超精密光学检测、超精密光机制造等领域的研发、生产和销售。其产品主要应用于高端光学系统，具备高复杂度和极限精度的特点。公司总部位于吉林省长春市，在上海设有投影光刻照明系统研发分公司。
近年来，国科精密积极拓展业务布局，致力于极大规模集成电路光刻投影光学、显微光学、多光谱融合成像探测等领域的高技术研究，同时开展各类高端光学仪器与装备产品的研发工作。公司在上海设立的分公司专注于光刻机照明系统的研发、制造和技术服务，提升了在复杂非成像光学系统设计与仿真、深紫外激光光束整形与控制等方面的能力。
（三）科益虹源
科益虹源于2016年7月由亦庄国投、中科院微电子所、国科控股和技术团队共同发起设立，肩负专项成果转化重任。公司是一家专注于半导体行业高端光源设备研发的高科技企业，是中国唯一、全球第三家具备光刻准分子激光技术全链条研发和产业化能力的公司，业务涵盖国产自研光刻曝光光源产品、进口高端光源技术服务、集成电路检测光源、高端光源核心元器件等领域。
2018年3月科益虹源自主设计开发的国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破了国外厂商的长期垄断。公司正在承担“国家02重大专项浸没光刻光源研发”任务。科益虹源为上海微电子光源供应商。
（四）华卓精科
华卓精科成立于2012 年 5 月，目前为国内首家自主研发并实现光刻机双工件台商业化生产的企业，主营业务以超精密测控技术为基础，研究、开发和生产超精密测控设备部件、超精密测控设备整机并提供相关技术开发服务，主要产品包括精密运动系统、静电卡盘和隔振器等超精密测控设备部件，以及晶圆级键合设备、激光退火设备等超精密测控设备整机，应用领域覆盖集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C制造等行业。
公司精密运动系统产品采用定制化技术路线，从细分领域切入，逐步实现全应用领域的覆盖，拥有精度高、产品成熟和性能好等特点，定位精度可达60nm，产品已进入各领域龙头企业供应链，同时为多所高正和科研机构提供产品和技术服务；晶圆级键合设备采用了面对面对准的方式，扩大了适用晶圆种类，并采用精密控制技术和图形分析算法，使晶圆对准精度达到150nm；激光退火设备采取差异化技术路线，提出多波、多光束叠加退火的核心技术，实现了光束和温度场的灵活可控，已实现首台激光退火设备的生产并向燕东微电子等客户交付，通过用户验收；纳米精度运动及测控系统采用目前最先进的磁悬浮平面电机驱动导向一体化结构，在自主开发的先进算法控制下实现纳米级分辨率及相应套刻精度指标；公司自主研发的静电卡盘产品在产品结构设计、尺寸形位精度及使用可靠性等方面具有技术优势，一定程度上破除了国外厂商在该产品领域内的长期垄断局面。
公司DWS系列光刻机双工件台采用平台化、模块化的设计，可实现优于4.5nm的运动平均偏差，正在研发中的 DWSi 系列光刻机双工件台运动平均偏差优于2.5nm，可应用于ArFi光刻机。
（五）福晶科技
福晶科技主要从事光电元器件的研发、生产和销售，致力于为客户提供一站式综合解决方案。其产品体系涵盖晶体元器件、精密光学元件和激光器件三大类。其中，晶体元器件包括非线性光学晶体、激光晶体、磁光晶体、双折射晶体、声光和电光晶体、闪烁晶体等，广泛应用于各类激光系统；精密光学元件涵盖窗口片、反射镜、棱镜、偏振器、柱面镜、球面镜、波片、分光镜等，用于光学系统的精密调控；激光器件主要包括磁光器件、声光器件、电光器件及电光驱动电源，作为激光系统的核心组件。
公司持有至期光子股份45.79%，至期光子主要面向高端光学应用领域，聚焦于纳米及亚纳米精度的超精密光学元件及复杂光机组件的研发与生产，面向国家重大战略需求的半导体高端装备与其他重大技术设备应用领域，致力于突破关键性瓶颈技术，为半导体量测设备在内的前沿高端光学应用提供优异品质的超精密光学元器件国产替代解决方案。
（六）茂莱光学
茂莱光学专注于精密光学器件、光学镜头及光学系统的研发、设计、制造和销售，主要产品覆盖深紫外DUV、可见光到远红外全谱段，下游涵盖半导体、生命科学、AR/VR 检测、无人驾驶等领域。公司深耕光学行业数十载，拥有较强的研发实力、制造工艺，建立了完善的运营管理体系和营销服务体系，销售网络覆盖欧洲、北美、中东等国家和地区，凭借着技术实力和垂直整合能力，已与多家全球领先的高科技企业及关键技术领域的科研院所达成长期战略合作伙伴关系。
公司研发设计和制造的精密光学器件包括透镜、棱镜和平片，具有高面型、高光洁度、高性能镀膜指标特点，应用于光刻机、高分卫星、探月工程、民航飞机等国家重大战略发展领域；研发制造的精密光学镜头包括显微物镜、机器视觉镜头、成像镜头和监测镜头系列产品，具有高精度、高分辨率、成像质量优质的技术特点；精密光学系统主要包括半导体检测光学模组、医疗检测光学系统模组、生物识别光学模组、AR/VR 光学测试 模组及光学检测设备等，覆盖多个科技前沿应用领域中光学模组和光学设备的设计、装调及测试。
（七）福光股份
福光股份是一家专业从事特种及民用光学镜头、光电系统、光学元组件研发生产的高新技术企业，产品涵盖激光、紫外、可见光、红外全光谱镜头及光电系统。公司业务分为（“定制产品”和（“非定制产品”两大类，其中定制产品主要应用于国家重大航天任务及高端装备，如（“神舟系列”“嫦娥探月”“天问一号”等，核心客户包括中国科学院及各大集团科研院所；非定制产品则覆盖安防、车载、红外、机器视觉、投影光机等领域，广泛应用于智慧城市、物联网、车联网、智能制造等行业，推动光学技术的广泛应用与产业升级。
公司持续加码高端光学制造领域，参股企业至臻光学专注于智能高端光学设备及超精密光学元件的生产，涵盖超精密光学镜片、滤光片及相关光学组件。目前，至臻光学的超精密离子束抛光机已成功突破国外技术封锁，为半导体、高端光学系统等领域提供核心支持。同时，公司承担的国家重点研发计划及其他重大科研项目获得政府补助，进一步增强技术创新能力。未来，福光股份将依托自主研发优势，强化定制化高端光学业务，推动国产替代进程，巩固行业领先地位。
（八）汇成真空
主要产品为以真空镀膜技术及成膜工艺为核心的真空镀膜设备以及配套的工艺服务。公司长期致力于溅射镀膜技术、蒸发镀膜技术、离子镀膜技术、柔性卷绕镀膜技术以及成膜工艺的研究和应用，目前公司生产的真空镀膜设备已应用于智能手机、屏幕显示、光学镜头等消费电子领域，以家居建材和生活用品为主的其他消费品领域，航空、半导体、核工业、工模具与耐磨件、柔性薄膜等工业品领域，以及高正、科研院所等领域。下游产品应用具体包括智能手机、摄像头、屏幕显示、汽车配件、航空玻璃、磁性材料、半导体电子传感器、光刻掩膜版等。
公司真空镀膜设备销售客户行业分布较广，多个不同行业应用经验形成了公司丰富的技术和工艺储备。其次，公司产品涵盖了蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、离子镀膜等主要真空镀膜技术及其组合应用，设备形态包括了单体机和连续线，满足不同客户的需要。经过长期的自主研发，公司拥有多项与真空镀膜设备设计相关的核心技术，包括真空腔体及真空系统设计技术、真空环境机械装置设计技术、温控系统设计技术、电弧蒸发源设计技术、磁控溅射靶设计技术、弧光电子束增强离子清洗装置技术、卷对卷真空镀膜设备设计技术、真空连续生产线设计技术等核心技术，并搭建了完整的各种功能膜系的研发试验平台，可为不同行业客户提供各种镀膜工艺的研发、试验。公司在真空镀膜设备领域拥有多项自主知识产权，截至2023年12月31日，发行人共拥有96项专利，其中发明专利27项，实用新型专利68项，外观设计专利1项并获得软件著作权7项。
（九）腾景科技
腾景科技是一家专注于精密光学元组件与光纤器件研发、生产和销售的高新技术企业。产品涵盖平面光学元件、球面光学元件、模压玻璃非球面透镜、光纤器件等，广泛应用于光通信、光纤激光、量子信息科研、生物医疗、消费类光学、半导体设备等领域。其光学产品在量子计算、生物医疗器械、AR/智能驾驶、半导体设备等前沿技术中发挥重要作用，助力行业创新发展，并积极拓展新兴应用市场，具备较强的技术优势与市场竞争力。
2025年3月，公司收购迅特通信100%股权，标志着其在光通信产业链的进一步延伸，并强化行业整合与协同发展。迅特通信专注于光模块研发制造，产品广泛应用于 AI 算力中心、云计算数据中心及 5G 通信网络。腾景科技借此实现从（“光学元组件-光模块-系统集成”的垂直整合，提升协同效应，降低成本，并增强市场竞争力。此次并购顺应光通信行业快速增长趋势，把握AI算力和5G机遇，有望推动腾景科技成为一站式光学解决方案供应商，并进一步拓展全球市场。
（十）炬光科技
炬光科技专注于光子行业上游高功率半导体激光元器件和原材料（（“产生光子”）、激光光学元器件（（“调控光子”）的研发、生产和销售，并拓展至中游光子应用模块、模组和子系统业务（（“提供光子应用解决方案”）。公司重点布局汽车应用、泛半导体制程、医疗健康三大领域，产品涵盖半导体激光元器件、激光光学元器件，以及激光雷达、集成电路、显示面板和医疗设备等光子应用解决方案，广泛应用于先进制造、医疗健康、科学研究、汽车应用及消费电子等领域，作为产业链关键环节，为下游客户提供高性能、高可靠性的核心元器件与系统解决方案。
（十一）永新光学
永新光学是一家专注于科学仪器和核心光学元组件业务的科技型制造企业，是国内光学显微镜和精密光学元组件的龙头企业。目前公司目前主要业务由光学显微镜、条码机器视觉、车载激光雷达和医疗光学四部分组成，主要产品包括光学显微镜、条码扫描仪镜头、自动变焦模组、机器视觉镜头、激光雷达光学核心元组件、内窥镜镜头等。公司在光学精密制造领域具有数十年的发展历史，在技术研发、产品品质、生产管理、客户资源等方面形成了较强的综合竞争优势。
分业务来看，1）光学显微镜：公司是国内为数不多的具备高端显微镜自主研发制造能力的企业，对单价 300 万元以内的高端显微镜产品进行全覆盖，其中超分辨光学显微镜产品的成功上市标志着公司在光学显微镜领域的技术水平已达到世界顶尖水准。2）条码机器视觉：公司为全球领先的条码扫描机器视觉设备光学元组件供应商，与全球条码扫描及机器视觉巨头建立长期深度的合作关系。3）车载激光雷达：公司在激光雷达新兴市场已有近 10 年的研发制造经验，产品通过车规级环境应力测试、可靠性测试等，已成为禾赛、图达通、法雷奥等激光雷达全球头部企业的重要合作伙伴。4）医疗光学：公司充分挖掘围绕光学领域的广泛可能性和技术创新，积极切入医疗器械市场，开发多款内窥镜镜头、模组，手术镜、检测物镜等极端精度医疗元组件产品，实现光学部组件国产替代，并以高端显微镜产品的技术积累为基础，切入医疗仪器领域。
（十二）波长光电
波长光电是国内精密光学元件、组件的主要供应商，长期专注于服务工业激光加工和红外热成像领域，提供各类光学设备、光学设计以及光学检测的整体解决方案，主要产品包括激光光学和红外光学的元件、组件系列以及光学设计与检测系列，涵盖了激光光学系列中的扩束镜头、扫描镜头、聚焦镜、准直镜；红外热成像系列中的红外热成像镜片、近红外镜头、短波红外镜头、中波红外镜头以及长波红外镜头；光学设计与检测系列中的主流光学设计软件ZEMAX 以及光学检测设备等，公司紧跟市场发展和客户需求不断开发新规格的产品，并专注提升包括光学材料、加工工艺、光学系统设计在内的技术整合能力，公司拥有 30 余台先进的镀膜设备，以及一支具备丰富经验的镀膜团队，能够实现包括类金刚石膜（DLC）在内的增透、高反射、部分反射、分光、滤光等膜系，提高光学元件、组件的透光率、反射率和滤过率等技术指标。
细分来看，1）激光光学系列，公司的激光光学系列可以应用于多个波长范围（180nm 到10600nm）、多种类型激光器的光路设计，包括了波长为 9.4um/10.6um 的 CO2 激光器、波长为 266nm/355nm 的紫外固体激光器、波长为 405nm 的蓝光固体激光器、波长为808nm/915nm/980nm/1064nm 的半导体激光器、光纤激光器和 Nd：YAG 激光器等。2）红外光学系列：公司的红外热成像系列的波段划分为900nm-14000nm，包括 900nm-1700nm 的近红外波段以及 2000nm-14000nm 的热成像波段，焦距范围从 2mm 至500mm，可视角度覆盖 1 至 180 度。3）光学设计与检测系列：涵盖了子公司光研科技南京有限公司代理的主流光学设计软件 ZEMAX 以及光学检测设备等。
（十三）菲利华
菲利华立足石英玻璃领域，专注开发气熔石英玻璃、合成石英玻璃、电熔石英玻璃与石英玻璃纤维及制品。主导产品包括石英玻璃锭、筒、管、棒、板、片，石英玻璃器件，石英玻璃纤维系列产品，石英玻璃纤维立体编织预制件，以及以石英玻璃纤维为基材的复合材料。高性能石英玻璃材料及制品，石英玻璃纤维及以石英玻璃纤维为基材的复合材料及制品是半导体、航空航天、光学、光通讯等行业和国家相关重大工程不可或缺的重要基础性材料及制品，公司以“实现中国石英的崛起”为企业使命，配套航空航天、半导体、光学、光伏、光通讯等领域，为中国半导体、航空航天等高新技术产业的与发展贡献力量。
分应用领域看，1）半导体领域：公司的半导体用气熔石英玻璃材料通过 TEL、Lam、AMAT三大国际半导体原厂设备商以及日立高新技术公司的认证。子公司上海菲利华石创的石英玻璃器件加工通过了中微公司和北方华创等国内主流半导体设备厂商认证。2）航空航天领域：公司是全球少数具有石英玻璃纤维量产能力的制造商之一，是国内航空航天领域石英玻璃纤维主导供应商，拥有石英玻璃纤维材料、石英玻璃纤维立体编织材料、以石英玻璃纤维为基材的复合材料结构件的完整产业链。3）光学领域：公司推出超低膨胀合成石英玻璃、高光学均匀性合成石英玻璃以及环保型无氯合成石英玻璃，成为光学应用的优选材料。4）光伏领域：公司与国内多家知名光伏企业建立了战略合作伙伴关系。5）光通讯配套领域：公司产品链延伸至炉芯管、石英玻璃器件的生产，以多样化的产品实现了对光通讯行业石英玻璃辅材的全方位配套，石英玻璃支撑棒、把手棒系列产品，降低了光通讯行业配套石英玻璃材料成本，提升了光通讯企业的国际竞争力。
