DARPA资助开发出全息超表面纳米光刻3D打印技术

【据英国体素要闻网站12月6日报道】美得克萨斯大学奥斯汀分校在DARPA资助下，成功开发出一种名为“全息超表面纳米光刻”的新型3D打印工艺，有望革新先进电子产品制造方式，实现更高效环保制造。相较于传统光刻工艺需要通过反复上百次叠加二维图案以制造立体结构的复杂流程，该工艺的关键突破在于：用一块特制“超表面”光学掩模，在单次曝光中直接产生所需的三维光图案，将混合树脂一次性固化成预设的复杂结构。这一过程既保持了纳米级精度，又将可加工图案面积扩大到实用尺寸，生产周期也从传统工艺的数月缩短到数天。该工艺可解决传统制造中“复杂结构设计得出却造不出来”的难题，为突破高端电子封装、异形电路集成等领域的设计制造瓶颈提供了全新技术路径，尤其适配未来雷达、通信设备、无人机等武器平台对高性能、定制化、小型化电子模块的需求。