2025 年 10 月 7 日至 9 日 Busch Group 旗下的 Pfeiffer 普发参与了在亚利桑那州凤凰城举行的 SEMICON West 2025。作为创新真空和减排解决方案的领者,Pfeiffer 普发旨在优化半导体制造工艺的全面产品和服务。
UltiDry 多级罗茨真空泵是半导体市场的重要解决方案,为严苛的生产工艺提供更节能、更稳定的解决方案,助力您实现可持续产能升级。
UltiDry 多级罗茨真空泵
当需要可靠和低能耗时,UltiDry 多级罗茨真空泵就会发挥作用。该真空泵非常适合恶劣的应用。UltiDry 多级罗茨真空泵旨在增强粉末管理和处理高入口流量,可以承受腐蚀性气体。
此次展会,我们带来 Pfeiffer 普发用于半导体工厂的污染管控的全面解决方案(CMS)。旨在提高半导体制造的良率并确保质量保证。这些产品可立即识别污染、可定制设计和高吞吐量,支持先进的半导体晶圆厂保持最佳性能。
为了检测并去除空气分子污染物,Pfeiffer 普发污染管控解决方案(CMS)提供包括 APA 302 S、APA 302 LD、ADPC 302 和 AMPC 的量测设备以及 APR 4300 解决方案。
Pfeiffer 普发污染管控解决方案(CMS),是以客户为中心的全面协作解决方案,通过对制造环境和包装中的污染物进行细致控制,显著提高产品的产量和质量。
除了真空泵新品及污染管控解决方案以外,Pfeiffer 普发还展示其先进的气体减排系统,致力于确保半导体制造过程的安全与环保。我们的端到端解决方案能高效处理各类强效温室气体等工业废气,通过在其产生源头直接分解的方式,显著减少环境排放,携手客户共创更清洁的未来。
如何实现减排?
这些系统专注于减少有害排放并改善晶圆厂环境中的空气质量。通过采用最先进的技术,Pfeiffer 普发的减排系统可以有效管理和中和半导体制造过程中产生的有害气体和蒸气。
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