已投动态丨神光光学集团有限公司成功承办全国半导体设备和材料标委会微光刻分技术委员会第六届年会暨第十五届微光刻技术交流会

2025年11月2日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第六届年会暨第十五届微光刻技术交流会在南宁市嘉暘碧天酒店五象店隆重开幕。

全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会由全国半导体设备和材料标准化技术委员会筹建，国家标准委进行业务指导。负责专业范围为微光刻术语等基础通用，掩模基片、掩模版及光致抗蚀剂等关键材料的产品规范和检测方法，微光刻图形数据处理技术、光学光刻与电子束光刻工艺等微光刻关键工艺规范，光掩模制造与光刻工艺相关设备及部件等。

本次会议由神光光学集团有限公司与广西产研院先进技术融合创新促进中心有限公司联合承办，汇聚来自全国微光刻领域的院士专家、企业代表与行业精英，围绕微光刻技术、标准化进程与关键材料突破等核心议题，展开深度交流与思想碰撞。 

高端石英材料，是光刻技术稳步前行的基石，更是产业链自主可控的先锋。神光光学始终坚持以国家战略为指引，突破关键核心技术为使命，持续加大研发投入，全力推动以掩模基片、掩膜版为代表的核心基础材料国产化进程，为构建安全、自主、可控的中国半导体产业链，贡献神光的“材料力量”。

部分与会代表前往南宁神光科技有限公司参观，实地考察神光光学在石英材料制备、光学加工等领域的技术实力及产学研协同的创新成果，对神光光学在基础材料领域的持续创新给予了高度评价。

神光光学集团有限公司始创于2007年（前身技术研发始于2002年），注册资本1.86亿元，是一家专注高品质合成熔石英玻璃研发与生产的高新技术企业。公司以合成紫外熔石英玻璃（I类、JGS1、ZS）为核心，深耕行业20余年，是国内合成熔石英玻璃领域技术引领者。

2005年，公司突破大规格熔石英玻璃制备技术瓶颈，成功研制国内首根φ230×1570mm熔石英玻璃毛砣，开创了立式沉积工艺国产化先河。作为该工艺的国内开拓者，神光光学打破了行业长期依赖进口的局面，推动产业链实现技术升级与跨越式发展。

公司坚持自主创新，攻克多项关键核心技术，拥有多项国家专利，承担国家级、省部级、市级科研项目20余项，技术指标达国内领先、国际先进水平。其产品广泛应用于航空航天、精密光学、光刻技术、半导体等高端领域，作为国内高端合成熔石英玻璃的核心供应商，技术实力位居国内行业首位。

近年来，公司进军半导体光掩模基板领域，成功开发多款TFT及芯片用光掩模产品，并取得了关键性进展和标志性成果，技术指标全面满足客户需求，标志着公司正式迈向半导体国际产业链，实现国产化替代的新突破。

文章来源：部分内容摘录自神光光学集团公众号。