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6月24日，绍兴市越城区融媒体中心发表了一篇文章，标题为《国产光刻机工厂落户越城》，文章披露了总投资额约50亿元的上海图双精密装备项目选择在绍兴市越城区落户的消息。
但需澄清的是，上海图双精密装备有限公司并非公众普遍认为的“国产光刻机制造商”，其核心业务实际上是半导体设备的翻新工作，主要涵盖光刻机（尤以封装光刻机为主）、涂胶机、刻蚀设备、测试设备等，服务对象包括尼康、佳能、ASML、东京电子、SVG Track、Hitachi等多家知名企业。此外，该公司还提供整线设备、工艺引进以及建设方案等服务。
如果将芯片制造比作雕刻，那光刻机就是将雕刻线稿（电路图）描绘在材料（晶圆表面）上的画笔。它决定着芯片的工艺水平和性能，是制造半导体芯片的关键装备。
近期，一个总投资额约达50亿元的上海图双精密装备项目成功落户绍兴市越城区，为该区的“芯”产业布局增添了新的重要一环。该项目规划分两期进行建设，其中一期预计投资约5亿元，占地35亩，旨在将公司目前在上海的产能进行转移并扩大；而二期则计划投资约45亿元。两期项目共同目标是实现年产50至100台半导体设备。目前项目正在紧锣密鼓地建设中，预计将于2025年正式投产。
为何这家上海的高新技术企业会选择越城作为其生产基地呢？上海图双的董事长钟敏揭示了其中的缘由。去年下半年，鉴于公司连续多年业绩的稳健增长，他们计划在长三角地区建立一个大型生产基地。在经过多次的考察和洽谈后，钟敏被越城区展现出的诚挚态度和优越条件所吸引。“这里的招商政策优惠，产业集聚效应显著，而且项目还有专人提供全流程服务，为企业的发展提供了广阔的空间。”对于越城的营商环境，钟敏给予了高度评价。
经过多年的精心培育和发展，越城区已经汇聚了近百家集成电路及相关规模以上企业，初步构建了一个以特色工艺和先进封装为核心的全产业链条，其产值规模已超过500亿元，稳居浙江省集成电路行业的领先地位。众多行业龙头企业汇聚于此，他们凭借精湛的技艺和源源不断的创新力，正将硅片转化为推动未来发展的强大动力。
光刻设备是发展集成电路产业的核心设备，却一直处于“卡脖子”状态。光刻机最先进的技术被荷兰的ASML、日本的尼康、佳能三大国际大厂垄断。尤其是最为先进的EUV光刻机，全世界仅有ASML一家能够提供。目前，在光刻机领域，国内众多集成电路生产企业仍需通过进口来满足产业发展的需求。
此次成功引入的上海图双精密装备项目，不仅能根据市场需求研发生产国产光刻机，也能对国外光刻机进行定制化改造、调试。“光刻机比较精密，设备的装调是相当重要的环节。”钟敏解释道，超高的精密度要求是造成光刻机技术难以在短时间内取得突破的主要原因之一。以EUV光刻机为例，其零件数量超过45万个，是一辆F1赛车的20倍以上。因而，光刻机从出厂，经船运或空运到达项目安装地后，还需要几个月的时间进行装调。
目前，上海图双的技术能力和资源已覆盖ASML、尼康、佳能三家公司的6英寸、8英寸、12英寸光刻机，能按照不同的芯片产品特性及工艺进行设备再制造、技术匹配、工艺调试等定制化服务，从而更好地满足本地集成电路产业的“芯”质生产，在持续提升芯片价值的同时降低制造成本，与“芯”友共同推动集成电路产业的崛起。
预测至2024年，全球光刻机市场规模将增至295.7亿美元。这一增长主要得益于消费电子需求之外的新动能，如电动汽车、风光储、人工智能等领域对半导体产业的需求增长。随着这些新兴领域的快速发展，对高性能、高精度光刻机的需求也将不断增加，从而推动光刻机市场的持续扩大。
光刻技术的难点主要体现在高精度、复杂制程、制程材料等方面。首先，随着芯片制程的不断提升，光刻技术需要更高的分辨率，这意味着光刻机的光源、透镜和机械部件都必须具备更高的精准度，以确保微米级以下的图案制作准确无误。
其次，光刻制程是一个涉及多个因素的高度复杂过程，需要实现严格的协调和控制。在光刻过程中，温度、湿度、机械振动等因素都会影响制程的稳定性，因此需要实现精细的控制以确保产品一致性。
此外，制程材料的研发与选用也是光刻技术的难点之一。光刻胶、掩模材料等需要在特定的光学和物理条件下具备稳定性，以确保图案的准确传递和再现。
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