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超透镜终迎来商业化，绝对效率可达94% | OE NEWS

光电汇OESHOW

2021-10-14

导读：超透镜商业应用的重要里程碑

10月13日，光学解决方案公司NIL Technology（NILT）报告称，已经设计、制造并测试了多款超透镜光学器件（MOE），其绝对效率已经高达94%。本次对外演示的是一款940 nm的近红外超透镜，被认为是超透镜商业应用的重要里程碑。

NILT开发的超透镜结构图

NILT表示，MOE从设计、原型制作、组装到量产的整个过程都是在公司内部完成的，其中大规模生产是通过纳米压印光刻完成的，这一方面解决了半导体工艺对超透镜单元几何形状（如尺寸、形状和相对位置）的限制；另一方面也确保了MOE的最佳性能和创新自由度。此外，更重要的是纳米压印光刻工艺使得超透镜的大规模量产摆脱了对资本密集型设备（如极紫外光刻系统）的依赖。

目前，这些镜头已经准备好交付和量产，并且可以根据NIR和SWIR波段中的任意波长进行定制型设计和加工。

本文由光电汇编辑王越根据photonics内容编译，如需转载请注明。