上海光机所研制出国际最大~2m无拼缝脉冲压缩光栅 | OE NEWS

该光栅技术突破基于本所国际首创的超大口径反射式单次静态曝光技术。自2018年起，上海光机所充分发挥高功率激光元器件、加工、检测及大装置需求牵引的技术优势，先后突破大口径高精度离轴抛物面镜加工及其表面缺陷检测及抑制、曝光环境温流场稳定控制、大口径干涉光场调控、大面积光刻胶纳米涂层均匀制备、高精度曝光显影监测等系列关键技术。

基于以上系列技术制作的超大尺寸无拼缝脉冲压缩光栅，平均效率高于93%@＞200 nm带宽，掩膜的高度、槽型、均匀性和复形效果等关键指标符合预期，证明上海光机所已经在工程能力上掌握了国际上唯一的实现途径，实现了我国在该领域的国际领跑。本阶段的技术突破不但为单路百拍瓦甚至艾瓦级超强超短激光解决了最主要的技术瓶颈，同时也为我国超强超短激光装置规模化建设提供了保障。

图2 光栅衍射效率谱线

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