近日，根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯正在研发生产芯片的微影光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出，2024年将开始生产350 nm微影光刻机。此外，在2026年启动用于生产130 nm制程芯片的微影光刻机。其生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。
Vasily Shpak指出，当前全球只有两家公司生产此类设备，包括日本NIKON 和荷兰ASML。然而，其对于半导体的生产相当重要。如果没有半导体主权，那就没有技术主权，那么在国防安全和政治主权方面就非常脆弱。而现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造65 nm微影光刻机的技术，但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的微影光刻机，所以俄罗斯正在匆忙开发自己的生产设备。
Vasily Shpak还表示，2024年将拨款2114亿卢布（约合人民币166.77亿元）用于国内电子产品的开发。而俄罗斯决定开发350 nm到65 nm微影光刻机，原因在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占市场的60%。所以，这项设备在全世界市场的需求量很大，并且将在至少10年内有持续的需求。
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