近日，苏州光舵微纳科技股份有限公司（以下简称“光舵微纳”）完成由国投创合投资的近亿元B+轮股权融资。
作为国内领先的纳米压印技术完整方案提供商，光舵微纳经过多年的研发及市场应用推广，制造出了多款研发型纳米压印设备及全自动量产型纳米压印设备，实现了设备、耗材及工艺的全方位突破。
发明于上世纪90年代中期的纳米压印（Nano Imprint Lithography，NIL）技术是利用机械模具微复型原理在基板上制备微纳结构的技术。该技术克服了光刻技术中由于衍射导致的分辨率限制，具有超高分辨率、易量产、低成本、一致性高的优点，可应用于半导体、LED照明、平板显示、生物技术、太阳能电池、光学等领域。纳米压印技术是微纳加工领域的一项关键底层技术，在国际半导体蓝图（ITRS）中，该技术被列为下一代半导体加工技术的重要代表之一。
光舵微纳在LED图形化衬底产业（LED-PSS）处于绝对的技术及市场领先地位，纳米压印设备及耗材已在客户端实现超过4000万片LED-PSS的大规模稳定量产，在此应用场景上实现了对尼康光刻机的产业化替代，并处于快速扩张阶段。
光舵微纳同时积极拓展纳米压印技术在高端半导体、AR衍射光波导、生物检测器件、消费电子等诸多重大领域的产业化应用，并取得了重要进展。
此次融资完成后，光舵微纳将继续提升其核心研发团队的技术实力，积极研发应用于多个重要场景的高端纳米压印设备并进行广泛的市场开拓，进行产线扩充，推进纳米压印技术在更多应用领域的导入，打造从产品、系统到整体解决方案的商业模式，助力我国半导体制造产业的高速发展。
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