美国持续加码对中国大陆芯片禁令，美国财经媒体引述知情人士说法指出，荷兰政府将禁止ASML（阿斯麦尔）为其在大陆的特定DUV提供维修服务，不只冲击ASML在大陆的营收表现，更将打击大陆芯片业发展，中芯明年恐怕无法替华为生产7纳米与5纳米芯片。
知情人士表示，阿斯麦尔在中国大陆提供服务和设备零组件的某些许可，即将在今年底到期，包括深紫外光曝光设备（DUV），在美国施压下，荷兰政府很可能不会续发许可，撤销这种维修支持，一些设备恐怕到明年就无法使用。
报导称，如果中国大陆欠缺阿斯麦尔的DUV设备，华为及其合作伙伴中芯，将越来越难以在现有能力上取得突破，明年恐无法生产7纳米与5纳米制程芯片。
荷兰政府禁止ASML出售三款型号光刻机产品给中国，型号包括Twinscan NXT:2000i、2050i与2100i型DUV，这些设备可以被用来生产7纳米及5纳米制程芯片，但相关设备有些已装置在中芯的晶圆厂中，华为去年推出5G手机搭载7纳米应用处理器，让市场震撼。
TWINSCAN NXT:2050i 是最先进的浸没式光刻系统设计与先进镜头设计的结合，其数值孔径 (NA)为 1.35，这是目前半导体行业 中最高的。该步进扫描系统是一款高生产率的双级工具，专为批量生产而设计。
通过将高生产率与前所未有的覆盖性能相结合，该系统满足了多种图案化要求，为在先进逻辑和 DRAM 节点制造 300 毫米晶圆提供了经济高效的解决方案。
TWINSCAN NXT:2100i是TWINSCAN NXT:2050i的后继产品。其新的硬件和软件创新使单机覆盖率提高了 10%(0.9 nm)，匹配机覆盖率提高了 13%(1.3 nm)。
NXT:2100i 采用了新的镜头畸变 操纵器，为芯片制造商提供了前所未有的校正能力。它使系统能够改善 DUV-EUV 交叉匹配叠加。通过将4色测量增加到 12 色以及在晶圆测量侧添加更多对准标记 测量，可以提高对准精度。各种软件算法也已更新，以提供改进的场间和场内叠加控制。
报导称，如果上述这些设备没有ASML的维修服务并更换新组件，恐怕到2025年就无法运作，将严重影响中芯与华为的先进半导体生产能力。
中国大陆积极发展芯片业让美国担忧，《日经新闻》报导，中国大陆芯片业实力持续进步，目前只差台积电3年水平。而美国出口管制的目标，是想让中国大陆在芯片竞赛中落后长达10年的时间。
来源知乎
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