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玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统：开启国产微纳加工新纪元

光电汇OESHOW

2025-09-23

在微纳制造领域，紫外激光直写光刻技术正持续推动着芯片、传感器和先进光学元件的高精度与柔性化发展。随着全球智能制造与高科技产业升级，AR/VR、生物医疗和集成光子学等前沿应用的不断拓展，市场越发渴求兼具高分辨率、出色稳定性和高度灵活性的光刻解决方案。

在这一背景下，玉之泉推出的AOD紫外激光直写光刻系统，深度融合声光偏转技术、激光精密调控与闭环反馈微纳加工技术，可直接在基材上“书写”任意二维/2.5维微纳结构，以其卓越的直写性能、广泛的工艺兼容性、智能化的加工模式及绝对的成本优势，剑指国际紫外激光直写光刻技术之巅，开启了紫外激光直写微纳加工的全新范式。这台新型紫外激光直写光刻系统即将首发亮相

一

卓越的直写性能：精度与效率的平衡艺术

玉之泉研发的AOD紫外激光直写光刻系统，重新定义了精密加工的精度与效率边界。

1、超精细加工能力

系统搭载高分辨写头，最小特征尺寸可达250 nm，能够精准构建细微复杂结构，广泛适配关键应用场景。

微流控芯片：轻松制作复杂多层通道网络。

生物芯片与传感器：加工细胞捕获、分子检测所需的微阵列结构。

衍射光学元件与光栅：支撑激光整形、AR/VR、光谱仪等领域的光学元件开发。

2、高稳定性光刻工艺

配备光学实时自动对焦功能，自动对焦范围达100 μm，为工艺稳定性提供核心保障。

基板适配：实时贴合硅晶圆、玻璃、PCB等基板的微观翘曲与厚度差异，补偿数十微米级高度差，确保激光全域聚焦。
环境补偿：实时监测并修正电机发热、温度变化导致的焦平面漂移，保障连续加工中，首片与末片晶圆的焦距精度一致，CD均匀性在高倍率下仍控制在50 nm内。

3、多场景灵活适配

配置多倍率写头，实现“精度-效率”按需切换。

5×倍率：写入速度达2000 mm²/min，适配大面积低精度加工任务。
100×高精度模式：仍保持15 mm²/min加工速度，满足小批量高精度定制需求。

二

全面的系统特点：适配多元应用场景

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统是一款兼具卓越兼容性与高度灵活性的高端制造平台，广泛适配于多元化的微纳加工场景。

1、宽域兼容性

光源适配：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统采用405 nm或375 nm紫外光源，兼容不同光敏材料工艺。
基板兼容：可支持9英寸基板，厚度覆盖0.1 mm~15 mm，适配超薄柔性基底至厚型硬质基板，可在晶圆级基板上制作复杂微米级图

2、高可控性与扩展性

精确控制激光曝光：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统最大曝光面积达200×200 mm²，温度稳定性控制在±0.1°，灰度等级高达4096级。系统突破了传统光刻局限，可制作平滑曲面、斜坡、球面、微透镜等复杂灰度结构。
高效加工模式：玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统支持多通道扩展，进一步提供加工能力。

三

特色功能：让加工更智能、更灵活

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统提供编程接口，支持自定义加工结构，超越标准格式限制。

1、脚本化刻写，释放设计自由

多样化的图形生成：支持用户编写生成任何数学上可描述的图形，灵活应对科研创新与小众工艺需求。
便捷的参数化设计：用户通过修改代码中的几个参数，就能自动生成非周期性、准晶格或自定义分布的复杂阵列，极大提高加工效率。
灵活的动态调控：可在曝光过程中根据位置、时间或其他逻辑动态改变曝光剂量、扫描速度等，实现灰度曝光或特殊效果。

2、多格式兼容与自动化集成

适配性强：刻写与切片软件兼容JPG、TIFF、GDS等多种格式，无缝衔接主流设计工具。
流程自动化：支持Python、LabVIEW等语言编写脚本，一键实现自动换基板、分区曝光、日志保存等操作。

四

广泛的应用前景：驱动产业创新浪潮

随着全球智能制造与高科技产业不断升级，AOD紫外激光直写光刻系统凭借其卓越的多功能性、显著的成本优势以及广泛的应用适配性，正在多个前沿领域展现出巨大的发展潜力，持续推动产业实现创新突破。

1、半导体制造领域

传统掩膜光刻因制程复杂、成本高且周期长，难以满足快速原型开发与定制化需求。玉之泉所研发的AOD紫外激光直写光刻系统无需掩膜，可直接刻写复杂电路图形，大幅缩短研发周期并降低生产成本。其支持的多通道扩展功能，更适用于掩膜版的批量定制与高端原型开发，为集成电路和微电子器件创新提供强有力支撑。

2、微流控与生物医学领域

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统表现出优异的高深宽比微通道加工能力，有力推动生物芯片与细胞操控等关键技术发展。其能够精准加工复杂微流体结构，满足精准医疗、高通量筛选和即时诊断设备对微纳结构的严苛要求，成为生物实验室与高端医疗设备制造中的理想平台。

3、微光学元件与AR/VR器件制造领域

玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统具备加工衍射光栅、微透镜阵列等复杂光学结构的能力，边缘平滑度高、形貌控制精准，非常适用于增强现实（AR）、虚拟现实（VR）等设备中对超薄、高精度光学元件的需求。

作为国内率先实现AOD技术产品化的激光直写光刻设备，玉之泉AOD紫外激光直写光刻系统的成功问世，打破了全球市场中欧美设备的技术垄断格局，成为名副其实的“国产替代破壁者”。它不仅填补了国内在该类高精度微纳加工设备领域的技术空白，更以其卓越性能证明了“中国精密制造”在全球微纳加工竞技场上锋芒毕露，中国已在该尖端装备领域具备了强大的全球竞争力。