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Dry pump（干式真空泵）因能提供洁净、无油污染的真空环境，且在抽气效率、稳定性等方面表现优异，被广泛应用于多个对真空质量要求较高的领域，主要包括：
• 半导体制造：这是干式真空泵最核心的应用领域之一。在光刻、蚀刻、薄膜沉积（CVD、PVD）、离子注入等关键工艺中，需要极高洁净度的真空环境，干式真空泵可避免油蒸汽污染晶圆，确保芯片制造的精度和良率。
• 平板显示制造：与半导体工艺类似，平板显示（如LCD、OLED）的生产过程（如蒸镀、刻蚀、薄膜制备）也需要洁净真空环境，干式真空泵用于维持工艺腔室的真空度，保障显示面板的质量。
• 光伏产业：在太阳能电池片的制造中，如PECVD（等离子体增强化学气相沉积）等工艺需要真空条件，干式真空泵可有效抽取反应气体，避免污染电池片，提升光伏组件的转换效率。
• 医药与食品行业：在医药领域，用于真空干燥、蒸馏、灭菌等过程，确保药品不受污染；在食品行业，可用于真空包装、冻干等，避免油类介质对食品的污染，符合卫生标准。
• 化工与新材料领域：适用于腐蚀性气体、易挥发物质的处理，以及新材料合成（如纳米材料、特种高分子材料）的真空环境控制，其抗腐蚀设计能适应复杂的化工工艺。
• 科研实验：在物理、化学、材料科学等实验室中，各类真空实验装置（如真空烘箱、真空镀膜机、粒子加速器配套设备等）常采用干式真空泵，满足实验对真空洁净度和稳定性的要求。
干泵通过电机驱动转子将气体排出以实现抽气功能，包括爪式（Claw-type Dry Pump）、涡旋式（Scroll Dry Pump）、罗茨式（Roots Dry Pump）和螺杆式真空泵（Screw Dry Pump）：
1.爪式干泵（Claw-type Dry Pump）
在泵腔内具有若干组相互啮合的爪型转子。转子与转子之间及转子与泵腔之间并不接触，留有微小的间隙，不用任何润滑剂，从而保证了清洁的真空环境。泵的结构采用多级转子串连的形式，每组转子分别位于不同泵腔做同步反方向运动。泵腔被爪型转子分隔为吸气腔和排气腔两部分。随着转子连续运转，进行循环的吸气、排气过程，实现了泵连续抽气的目的。爪式干泵的抽气速率更快，具有大流量处理能力；同时，可处理含微尘气体。在半导体领域，爪式干泵可应用在刻蚀、离子注入设备的前级泵，真空传输腔体抽气等领域。
（爪式干泵，图源网络）
（爪式干泵产品图，图源网络）
2.涡旋干泵（Scroll Dry Pump）
通过两个涡旋盘的转动，在两个涡旋盘之间不断产生周期性变化的新月形状小腔，达到压缩气体的效果。涡旋干泵能效比优于部分螺杆干泵。涡旋干泵不适用于含粉尘或液滴的气体。在半导体领域，涡旋干泵可应用在刻蚀、CVD/PVD 工艺的前级泵（搭配分子泵）、真空传输系统等领域。
（涡旋干泵，图源网络）
（涡旋干泵产品图，图源网络）
3.螺杆干泵（Screw Dry Pump）
是利用一对螺杆，在泵壳中作同步高速反向旋转而产生的吸气和排气作用的抽气设备，两螺杆经精细动平衡校正，由轴承支撑，安装在泵壳中，螺杆与螺杆之间都有一定的间隙，因此泵工作时，相互之间无磨擦，运转平稳，噪音低，工作腔无需润滑油，因此，螺杆干泵能抽除含有大量水蒸汽及少量粉尘的气体场合，极限真空更高，消耗功率更低，具有节能，免维修等优点。螺杆干泵具有连续压缩、无脉动气流，适合处理高湿度或含液滴气体的特点。在半导体领域，螺杆干泵可应用于干法刻蚀、化学气相沉积（CVD）的前级抽气；能够处理腐蚀性工艺气体（如CF₄、Cl₂）。
（螺杆干泵，图源网络）
（螺杆干泵产品图，图源网络）
4.罗茨干泵（Roots Dry Pump）
泵内装有两个相反方向同步旋转的叶形转子，转子间、转子与泵壳内壁间有细小间隙而互不接触的一种变容真空泵。罗茨干泵通过搭配前级泵（螺杆干泵等），可以达到更高的真空度。同时，罗茨干泵大流量优势明显，适合快速抽气的场景。在半导体领域，罗茨干泵可应用于高密度等离子体刻蚀（HDP Etching）的前级抽气，处理大量反应气体（如SF₆、O₂）；以及化学气相沉积（CVD）设备的粗抽阶段。
（罗茨干泵，图源网络）
（罗茨干泵产品图，图源网络）
来源：网络；技术书籍；SEMI炉管设备攻城狮（感谢以上各位为行业的推动做出的奉献）。本文主要针对Dry pump的应用进行介绍，希望可以给大家带来帮助。
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