国产光刻机领域传来重磅消息。
上海芯上微装科技股份有限公司官宣，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场，这标志着我国在高端半导体光刻设备领域再次实现关键突破。
这不仅是一次产品的交付，更是国产半导体装备向高端化、自主化迈进的重要里程碑。
据介绍，AST6200光刻机是芯上微装基于多年光学系统设计、精密运动控制与半导体工艺理解积淀，倾力打造的高性能、高可靠性、全自主可控的步进式光刻设备，专为功率、射频、光电子及Micro LED等先进制造场景量身定制。
AST6200光刻机具备四大核心性能亮点：
一是高分辨率成像满足先进工艺需求，搭载大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式与可变光瞳技术，实现350nm高分辨率，满足当前主流化合物半导体芯片的光刻工艺要求。
二是高精度套刻配置高精度对准系统，实现正面套刻80nm，背面套刻500nm，确保多层图形精准套刻，提升器件良率。
三是高产率设计，显著降低拥有成本。具备强工艺适应性，兼容多材质、多形态基底，支持Si、SiC、InP、GaAs、蓝宝石等多种材质基片；兼容平边、双平边、Notch等多种基片类型；创新调焦调平系统，采用多光斑、大角度入射设计，可精准测量透明、半透明、不透明及大台阶基底；支持背面对准模块，满足键合片等复杂制程的背面对准需求。
四是100%软件自主可控打造全栈国产生态，AST6200搭载芯上微装自主研发的全栈式软件控制系统，从底层驱动到上层工艺管理，实现完全自主主权。
芯上微装成立于2025年2月，致力于为全球客户提供高性能、高可靠性、国产化替代的核心光刻解决方案。公司拥有一支由光学、机械、控制、软件与半导体工艺专家组成的顶尖研发团队，掌握多项核心专利技术，在投影物镜、精密运动台、曝光系统等领域实现关键技术自主突破。
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