上交会50人
伍强
复旦大学微电子学院研究员、博士生导师、国家集成电路创新中心首席科学家、先进光刻胶材料教育部工程研究中心主任
“上交会50人”第二批专家、复旦大学微电子学院研究员/博士生导师伍强博士，凭借二十余年跨产业界与学术界的深厚积淀，在集成电路工艺研发，特别是光刻工艺研发、国产化突破与产学研协同领域持续深耕，对推动我国集成电路产业自主可控起到了的重要作用。
▐ 技术攻坚：从核心工艺到国产化突破的领航者
伍强的技术生涯始终瞄准光刻领域最前沿的挑战。从美国耶鲁大学物理学博士毕业后，他于2000年1月入职美国IBM公司投身65nm逻辑光刻工艺研发，深入研究光刻关键参数“等效光酸扩散长度”的测量与建模方法等，为先进工艺研发成功奠定了关键技术基础。2004年回国后，他先后扎根上海华虹NEC、中芯国际等龙头企业，带领团队完成0.18μm至7nm多代逻辑芯片光刻工艺的成功研发突破，更带领团队成功支持了首台193nm浸没式光刻机导入中国大陆的生产线，有力地推动了国内芯片制造产业的技术升级。
在国产化替代的核心战场，伍强的技术突破兼具学术深度与产业实用性。他深耕计算光刻与仿真技术领域，构建深紫外（DUV）光刻胶物理模型与极紫外（EUV）工艺仿真算法，成功研发了DUV与 EUV波长的光刻仿真软件CF Litho与光源-掩模版联合优化（SMO）软件CF SMO，打破了国外光刻仿真软件方面的垄断。在光刻胶材料领域，他推动高校研究所的材料研究与企业需求精准对接，成功合作研发了多款高端193nm光刻胶，并于2024年10月担任先进光刻胶材料教育部工程研究中心主任，成为国产化进程的重要推手。截至2025年，其团队累计获112项专利授权（含40项美国专利），发表论文超90篇，编著专著《衍射极限附近的光刻工艺》，《现代集成电路工厂中的先进光刻工艺研发方法与流程》，正在主持编撰集成电路工艺制造系列的丛书。系统梳理光刻技术全链条知识，成为连接学术研究与产业实践的核心著作。
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作为兼具学术界深度与产业经验的专家，伍强始终致力于打破“实验室到产业场”的转化壁垒。依托复旦大学学科优势，他牵头搭建光刻技术产学研协同平台，整合多学科力量构建“学术-产业”联动机制，联合行业内多家企业与科研机构展开技术攻关，在行业研讨中总结技术方向，为光刻胶国产化研发提供路径参考。
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针对产业发展痛点，伍强始终秉持“问题导向”的智库思维。结合多年行业经验，他在集成电路制造技术研讨中首先提出了“设计-基础设施协同优化”（DICO）与跨学科人才培养的重要性，相关思路为产业协同创新提供了关键参考。这种“从实践中来，到实践中去”的建言能力，使其成为衔接技术创新、产业发展与政策制定的关键纽带。
如今，伍强以“上交会50人”专家身份加入智库，将带着光刻技术的丰富经验与对国产化现状的深刻洞察，与推动集成电路技术国产化的经验与实践，为上交会搭建集成电路产业交流平台、推动中外技术合作、赋能中小企业创新提供核心智力支持，助力我国半导体产业在开放协同中实现高质量发展。
关于“上交会50人
“上交会50人”依托中国（上海）国际技术进出口交易会（CSITF），汇聚人工智能、生物医药、海洋科技、新能源等前沿领域的顶尖力量，形成了以华东地区为核心辐射中国乃至全球的科技产业智库。
2024年11月6日，“上交会50人”IP正式对外发布。未来，“上交会50人”专家团队将继续扩充，通过组织专题研讨会、技术贸易服务、地方及企业走访调研、高端人才服务、供需对接服务和企业出海服务，为技术贸易和产业发展提供全方位支持。
“上交会50人”IP系列活动
IP系列活动将通过有效拓展企业朋友圈、挖掘产业场景应用、增加商业合作机会、扩大市场规模、提升品牌影响力并吸引国际化专业人才，从而推动地区经济与产业高质量发展。
“上交会50人”城市点亮计划
该计划是“上交会50人”IP系列活动的重要组成部分，将从重点行业领域、全球主要经济带、全球主要城市、大企业四个维度开展城市间互访。围绕前沿科技、未来产业方向开展广泛交流，助力园区和企业构筑开放、共赢的产业生态圈。
