当地时间11月14日，欧盟在《官方公报》（OJL）发布了欧盟委员会委托法规(EU)2025/2003，对《两用物项条例》（Regulation (EU) 2021/821）所附的附件I即欧盟两用物项清单进行全面更新。这一行动并非局部修补，而是以全新的清单文本替换原有版本。
这是对9月8日欧盟委员会已通过的授权条例草案在完成议会与理事会两个月审查期后的正式公布。该文件的发布意味着更新内容已经完成从“委员会决定”到“欧盟法律效力”的全部程序转化。随着文本在《官方公报》刊登，新的两用物项清单自次日起在全体成员国直接适用。
欧盟称，作为澳大利亚集团（AG）、导弹技术控制制度（MTCR）、核供应国集团（NSG）、瓦森纳安排（WA）和《化学武器公约》（CWC）等多边出口控制机制的参与方，欧盟有义务在其国内法中反映这些机制的最新控制决定。
根据文件前言的说明，各国际机制已在2024年陆续更新其技术清单，成员国亦在瓦森纳安排框架下接受了新的控制承诺。因此，欧盟委员会依据2021/821号条例第17条的授权，采纳该委托法规，以确保欧盟的管制范围继续与国际规则保持一致，并为成员国主管机关和企业提供清晰、统一的法律依据。
此次更新后的附件I仍沿用十类技术体系，但在定义、技术参数、控制说明和分类细化方面均有显著扩展，涵盖电子、半导体制造、量子技术、高性能计算、传感器与激光、航空航天等多个关键领域。
欧盟声称更新在适用方面继续遵循欧盟两用品出口管制的基本原则——即确保敏感技术不被用于可能破坏国际和平与安全的用途，同时为企业提供透明、可操作的分类标准。
以下是部分关键更新：
1.电子(Category 3)
GAAFET（全环绕栅极场效应晶体管）：
文件在Part I 定义中新增了GAAFET的详细技术定义；
相应地，新增了3D006条目，控制用于开发具有GAAFET结构的集成电路的ECAD软件；
新增了3E505条目，控制使用GAAFET结构开发或生产集成电路或器件的技术。
EUV（极紫外）光刻：
3B001.j. 控制专为EUV光刻设计的、由钼和硅组成的多层反射镜结构的掩模基板坯料；
3B501.l. 控制专为集成电路设计的EUV掩模和EUV标线片；
3B501.m. 控制专为EUV光刻设计的薄膜；
3D003 控制专为开发EUV 光刻掩模或标线片上的图案而设计的计算光刻软件。
高性能计算芯片与转换器：
3A501.a.16.新增条目，控制具有一个或多个数字处理单元、总处理性能(TPP） 达到6000或更高的集成电路；
3A001.a.5.a.为模数转换器（ADC）设定了严格的性能门槛，例如：8 bit 但低于10 bit 分辨率时采样率大于1.3 GSPS；16 bit或更高分辨率时，采样率大于65MSPS；
3A001.a.7. 为 现场可编程逻辑器件（FPGA）设定了控制门槛，例如：最大单端数字输入/输出数量大于700，或聚合单向峰值串行收发器数据速率达到500 Gb/s或更高。
2.计算机(Category 4)
量子计算机：
文件新增了4A506条目，专门控制量子计算机及相关组件；
控制阈值基于物理量子比特的数量和C-NOT误差。例如，控制支持34至100个物理量子比特且C-NOT误差小于等于10-4的量子计算机；
同时控制专门设计的量子比特设备、电路(4A506.b)以及量子控制和测量设备(4A506.c)。
高性能计算机(HPC)：
4A003.b.将数字计算机的控制阈值设为APP（调整后峰值性能）超过70WT(加权TeraFLOPS)；
4A507新增条目，控制包含3A501.a.16.（即TPP>= 6000）所述高性能集成电路的计算机和电子组件。
3.传感器与激光器(Category 6)
超高功率激光器（SHPL）：
在Part I 定义中新增了Super High Power Laser (SHPL) 的定义；
6A005.f. 控制专为SHPL系统设计的 激光 诊断设备、相控阵SHPL系统的相干光束组合光学设备，以及SHPL系统专用的投影望远镜。
4. 航空航天与推进 (Category 9)
无人机(UAV)：
9A012.a.控制设计用于在操作员的自然视觉之外进行受控飞行的UAV，且满足以下条件之一：最大续航时间大于等于30分钟但小于1小时，并能在46.3 km/h (25节)的阵风中起飞和稳定飞行；或最大续航时间达到1小时或更长；
9A112.a.控制能够达到300km航程的UAV。
https://eur-lex.europa.eu/eli/reg_del/2025/2003/oj/eng