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导语：
在纳米级晶圆制造中，超纯水、高纯试剂及环境空气分子污染物（AMC）中离子态杂质精准检测是保障晶圆良率与器件可靠性的核心环节。苏州赛米肯分析技术有限公司作为行业领先的半导体第三方检测机构，以赛默飞ICS-6000高压离子色谱系统为核心技术支点，打造半导体领域离子态杂质检测的示范平台，赋能半导体产业链升级。
作为贯穿晶圆清洗、刻蚀等关键工艺的"生命溶剂"，UPW中万亿分之一（ppt）级离子残留都可能引发栅氧击穿、金属腐蚀等致命缺陷。依据SEMI F63-1224（超纯水应用指南）的严苛要求，构建"实时监测-智能预警-快速响应"的闭环管控体系，已成为3nm及以下制程突破良率瓶颈的必由之路。近日，我们走进赛米肯实验室，揭秘ICS-6000如何以创新技术赋能半导体质量控制。
作为行业领先的半导体第三方检测机构，苏州赛米肯分析技术有限公司面临核心挑战：1. 超低检出限需求，背景噪音低于1纳西门子，MDL低至1~2ppt，满足半导体行业对痕量杂质的严苛要求；2. 日均处理样品种类众多，样品量大、稳定性要求高；3. 从ppt级超纯水样品到ppb级AMC样品，跨度达三个数量级，系统需兼容不同浓度梯度，实现“一机多用”，降低设备投入成本。
客户之声
赛默飞搭载在线超纯水机和谱睿浓缩模块的ICS-6000高压离子色谱系统，以“高效、稳定、灵敏、兼容”的极致化性能，帮助我们建立半导体领域离子态杂质检测技术护城河。
苏州赛米肯分析技术有限公司 缪祺臻总经理
从操作简便性到长期运行成本，ICS-6000都展现了极致的性价比，成为我们打造半导体领域离子态杂质检测示范平台的助推器。
技术革新：谱睿浓缩技术突破极限
针对超纯水中超痕量组分检测难题，ICS-6000搭载在线超纯水机与谱睿浓缩模块，支持7×24小时稳定运行，确保高通量样品连续分析，同时使检出限提升10倍以上。通过实时监控并确保UPW指标持续达标，实现晶圆厂从源头控制污染，实现稳定的纳米级制造良率。
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数据见证实力：稳定与灵敏的双重保障
自动电解淋洗液技术：可自动在线电解产生七种不同淋洗液，消除人为误差，确保连续运行数据偏差＜2%，且可灵活改变梯度和浓度，达到最佳的分离效果，确保数据长期可靠性。
低流速设计：0.3ml/min低流速设计，兼顾灵敏度与耐用性，同时通过小直径色谱柱将灵敏度提升至常规尺寸的4倍。
抗污染能力：自动再生电解抑制器将系统背景降至1微西门子以下，即使面对复杂基体样品，依然能保持极低噪音。
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行业应用：从UPW到有机酸、电子气体的全场景覆盖
在某晶圆厂的实际应用中，ICS-6000成功检测出UPW中ppt级的氯离子残留，避免因栅氧完整性失效导致的良率损失；在AMC监测中，系统精准识别出空气中0.1ppb级的有机酸污染，防止图形缺陷发生；同时，通过兼容电子气体吸收液分析，实现氨气、氯化氢等气体的痕量检测，满足先进制程对气体纯度的严苛要求。
从超纯水、高纯试剂到空气分子污染物，从ppb级到亚ppt级检测，赛默飞ICS-6000高压离子色谱系统以其创新性和前瞻性的“高通量、高稳定性、高自动化”的完整解决方案，给半导体行业离子态杂质检测注入了强劲动力。未来，双方将依托现有设备继续加强合作，继续开发新技术新方法，充分发挥ICS-6000设备的性能优势，实现从单纯的设备采购至技术共创的跨越，共同推动半导体检测技术迈向更高水平。
苏州赛米肯分析技术有限公司
苏州赛米肯分析技术有限公司坐落于苏州昆山，以化学分析为基础，提供半导体和泛半导体高纯化学分析检测服务、以及超净实验室设计和完整配套等全面解决方案。同时致力于半导体和泛半导体生产制造过程中各种高纯化学品、高纯材料和高纯特气杂质分析方法的不断开发和创新,以及硅片、化合物晶圆污染物分析方法的不断开发和创新等，为各企业客户提供更精准、更稳定、更高效、更具雪亮眼睛特质的分析结果，让更多用户享有更精准、更专业、信息化关联更强的全方位分析技术和服务，立志成为国内乃至世界半导体化学分析方面最专业、最靠谱、最贴心的综合性分析技术公司。了解公司更多信息，请访问www.semichem.com.cn/index.html。
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