为期3日的深圳SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展完美收官。在这场聚焦半导体与电子制造前沿科技的盛会中，容道社凭借自研的软件、硬件技术平台与多项核心专利产品，成为现场备受瞩目的创新力量，收获了来自客户、媒体与产业链伙伴的广泛认可与高度关注。在展会期间收获大量客户的积极反馈与合作意向，成为现场备受瞩目的行业新秀。

容道社在SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展集中展示了包括光刻、匀胶显影、湿法去胶刻蚀与清洗等系列自研设备，覆盖黄光及湿法工艺多环节。公司坚持“设备+材料+软件”一体化协同创新，多项专利技术为工艺适配与定制化需求提供了坚实保障，引来大量客户驻足交流、深度洽谈。

董事长张子谟先生受展会官方邀请出席展会相关论坛并发表主题演讲，分享公司对半导体设备自主创新与产业链协同发展的思考与实践，引发行业关注。会议期间，张子谟先生还接受了多家权威媒体的现场专访，就容道社的技术路线、市场战略与未来规划进行了深入交流。

致敬研发部、工程部、生产、后勤支持同事，无数个深夜的灯火通明，一次次调试、迭代、突破，是你们让“自研”二字，有了技术的底气与锋芒。

每一句客户认可的背面，

是你们默默写下的注脚；

每一个达成意向的合作，

都离不开你们坚实的支撑。

谢谢所有幕后的小伙伴，

你们虽未立于台前，

却同样是这个舞台真正的主角。

展会虽已结束，但容道社半导体向前突破的脚步从未放缓。我们将持续加大研发投入，深化核心技术突破，优化客户服务体验，为国内外客户提供更智能、更可靠、更高效的半导体设备及工艺解决方案。期待与您携手，共同推动中国半导体制造迈向新高峰！