10月30日晚间，中微公司披露2026年第三季度报告。
财报显示，2026 年前三季度，公司实现营业收入 103.26 亿元，同比增长 28.08%；归属于上市公司股东的净利润 41.34 亿元，同比增长 241.31%；扣除非经常性损益后的净利润 16.23 亿元，同比增长 83.01%。 单看第三季度，公司实现营收 36.35 亿元，同比增长 17.18%；归母净利润 13.09 亿元，同比增长 159.02%；第三季度扣非归母净利润同比增长 43.77%。
中微公司表示，营收增长主要系公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。
报告期内净利润增长主要系：
2026年前三季度营业收入增长28.08%下，毛利较上年同期增长约10.21亿元；
公司以公允价值计量且计入当期损益的对外股权投资收益合计约19.40亿元，较上年同期的3.49亿元增加约15.91亿元；
公司本期出售了部分持有的拓荆科技股份有限公司股票，产生投资收益约9.53亿元；
2026年前三季度公司研发支出较上年同期增长6.99亿元（增长约27.70%），研发支出占公司营业收入比例约为31.20%。
公司目前同时推进六大类、超20款新设备的研发，新产品研发周期显著加快，只需两年或更短就可开发一款新产品。
截至2026年9月底，中微公司已开发出54种高端半导体设备，刻蚀和薄膜设备加工精度达到原子级水平，累计超过9300个反应台在国内外220余条生产线上实现量产。刻蚀设备方面，CCP和ICP刻蚀设备已覆盖95%以上应用需求，行业首创的双反应台ICP刻蚀技术达到0.2纳米单原子水平；薄膜沉积设备方面，LPCVD、ALD等十多款设备已进入市场，EPI设备进入客户端量产验证阶段。今年上半年，公司完成对杭州众硅的控股权收购，实现对CMP设备的覆盖，成为国内同时拥有刻蚀、薄膜沉积、CMP、量检测四大前道核心工艺设备能力的综合设备平台厂商。在大平板显示领域，公司用18个月开发出OLED 8.6代线大平板PECVD设备，填补国内技术空白。
面向未来，公司表示将通过自主开发与外延并购，覆盖60%以上的集成电路高端设备市场和70%以上的先进封装设备市场，目标成为全球领先的高端设备平台型公司。
产能建设同步提速，上海临港总部大楼暨研发中心已于2026年8月启用，广州华南总部研发及生产基地一期计划2027年投产，成都研发及生产基地暨西南总部一期预计2027年建成投产。公司当前整体建筑面积约60万平方米，预计未来五年左右增至90万平方米，年生产能力将提升至700亿元以上。
来源：证券时报网
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