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赛伍技术:同一天拿下两项发明专利,把胶水做进了半导体网版和HJT封装

赛伍技术:同一天拿下两项发明专利,把胶水做进了半导体网版和HJT封装 广东功能膜材料工业设计研究院
2026-11-02
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导读:赛伍技术10月30日同一天获得两项发明专利授权:聚酰亚胺网版膜利用同波段紫外吸收实现无添加剂高精度镭射刻蚀,服务半导体精密印刷;多功能复合胶膜通过接枝改性和UV光转剂解决HJT封装层压阴影与功率衰减问


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同一天拿下两项发明专利:赛伍技术把胶水做进了半导体网版和 HJT 封装

技术落点差异明显,但都指向高壁垒场景

2026年10月30日 | 赛伍技术同一天获得两项发明专利授权:一项指向半导体精密印刷的网版膜,一项指向 HJT 电池的封装胶膜

2 项

同日授权发明专利

聚酰亚胺

网版膜

HJT

封装胶膜

AI+实验室

研发闭环

一家胶膜企业,在同一天获得两项发明专利授权。这不是赛伍技术第一次在高端材料上落子——从 TCL 中环光转胶膜合作到 AI 赋能新材料研发,再到两项专利集中授权,赛伍正从"光伏胶膜供应商"向"高壁垒场景材料方案商"切换。

01
聚酰亚胺网版膜:让激光刻蚀不用加紫外吸收剂

专利|聚酰胺酰亚胺粘合剂、聚酰亚胺网版膜

传统网版膜胶层需添加紫外吸收剂来实现激光刻蚀,但这会影响耐化学性和存储稳定性。赛伍用聚酰胺酰亚胺树脂、环氧树脂和增韧树脂三材搭配,利用聚酰胺酰亚胺树脂与聚酰亚胺基膜对紫外激光吸收波段相同,无需额外添加紫外吸收剂即可实现高精度镭射刻蚀。

工程价值:一是胶层无触粘可常温存储,满足精密印刷的操作稳定性要求;二是省去紫外吸收剂后,胶层配方空间更大,耐化学性调控不再受制于添加剂副作用。这是赛伍向电子级材料延伸的技术储备。

02
HJT 封装胶膜:光转+接枝改性,解决"层压后无阴影"

专利|多功能复合胶膜,瞄准 HJT 封装痛点

HJT 对封装要求比 TOPCon/PERC 更苛刻——表面钝化层对紫外线和湿气敏感,传统胶膜易导致组件功率衰减。赛伍方案:电池片粘结层经接枝改性,胶膜层含 UV 光转剂,层压后无阴影,TC200 后功率衰减较小。

"层压后无阴影"是极关键指标。层压时胶膜流动性若与 HJT 电池片表面形貌不匹配,易形成阴影区影响输出功率和良率。接枝改性提升粘结匹配性,UV 光转剂把紫外转化为可见光——降低紫外损伤的同时贡献发电增益,与赛伍和 TCL 中环合作的光转胶膜技术一脉相承。


03
共同指向:从"通用胶膜"到"场景定义胶膜"

两项专利放在一起看,赛伍技术的技术路线呈现出清晰的分化:不再追求一款胶膜通吃所有场景,而是针对高壁垒场景开发"场景定义"的专用材料。

光伏胶膜通用品类已进入价格竞争白热化;而半导体网版膜、HJT 专用封装膜等场景,技术门槛高、验证周期长、毛利率显著高于通用胶膜。赛伍向高壁垒场景倾斜,是用技术差异化对冲通用品类的价格压力。

共同底层能力:聚酰胺酰亚胺树脂合成与改性、接枝改性技术、UV 光转剂配方设计——这些在光转胶膜、AI 赋能新材料研发中已有积累,两项专利是底层能力在不同场景的产品化输出。

04
转型节奏:专利授权是节点,客户导入才是答案

距离商业化|还隔着客户验证和产线爬坡

网版膜面向半导体和精密印刷客户,验证周期长、批次一致性要求极高;HJT 封装胶膜需配合电池厂组件工艺做适配。赛伍在光伏领域有成熟客户体系,但在半导体网版膜新场景中,客户关系和验证路径需重新建立。

AI+实验室:赛伍技术 2026 年半年报将"AI 赋能新材料研发"列为核心竞争力之首,已建成 AI+实验室并构建"数据-模型-实验-工程验证"研发闭环。两项专利的集中授权,可以看作这一研发体系产出的阶段性成果。


同一天获得两项发明专利,赛伍技术把胶水做进了半导体网版和 HJT 封装两个高壁垒场景。聚酰亚胺网版膜用"同波段吸收"省去紫外吸收剂,HJT 封装胶膜用接枝改性和光转剂解决层压阴影和功率衰减问题。

底层能力同源——聚酰胺酰亚胺树脂合成、接枝改性、UV 光转配方——但应用场景截然不同。

专利授权是技术能力的证明;从"能做出样品"到"能稳定供货给半导体和 HJT 客户",才是这轮转型的真正考题。

数据来源

国家知识产权局专利公告(2026.10.30)· 两项发明专利说明书 · 赛伍技术 2026 年半年报及与 TCL 中环战略合作公开信息






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