国产EUV光源样机首秀工博会：朗道燧岩迈出产业化关键一步
2026年第二十六届中国国际工业博览会正在国家会展中心（上海）举行，创新科技馆内百余项上海科创成果集中亮相。
据解放日报报道，朗道燧岩首次在此次工博会上展示了一台极紫外（EUV）光源系统样机。这是目前公开展示中进度最靠前的国产EUV光源样机，被誉为高端光刻机的“心脏”。极紫外光源是7nm及以下先进制程芯片制造的三大核心零部件之一，长期受海外技术垄断与禁运限制，是制约中国高端芯片自主可控的关键环节。
国产化率达90%，验证技术路线可行性
现场工作人员介绍，本次展出的光源系统国产化率达90%，绝大多数核心零部件为自主研发，技术路线与国际领先厂商一致，可用于芯片曝光测试。尽管距离量产还需3—5年，但这一突破标志着国产EUV光源从实验室走向产业化的关键一步。
查阅朗道燧岩官网可知，其已列出多款EUV产品，包括高功率极紫外光源腔体 FlintMicro-LPP Alpha01、激光诱导等离子体极紫外光源，以及低功率EUV光源系统 FlintNano LPP-OXXO 系统。
官网显示，高功率极紫外光源系统 FlintMicro-LPP 系列已完成原理论证，低功率极紫外光源系统 FlintNano-LPP 系列已处于产品化阶段。
据官网公布的技术参数，FlintNano LPP-OXXO的驱动激光功率为1000W，激光频率1至20kHz，转换效率大于2%，亮度为100W/mm²sr，EUV能量大于15W，持续工作时间超过100小时，发散角为1×10⁻³mm²sr，等离子体尺寸60μm，等离子体稳定性为3% RMS，能量稳定性为5%。
创始团队源自清华，获多方资本青睐
朗道科技主要从事半导体制造专用设备的研发、生产与相关技术服务。创始人王豪博士团队以清华大学气体放电等离子体实验室的研发成果为基础，聚焦LPP-EUV光刻光源技术。
公司成立于2024年，2025年10月获得张江高科旗下燧玥创投的天使轮融资，累计融资额超千万元，并入驻上海集成电路设计产业园。2026年1月完成天使+轮融资，2026年7月完成A轮融资，投资方包括沃衍资本、中芯聚源等。目前公司拥有燧岩、辉光、天算三大核心业务板块，分别聚焦EUV光源系统、大功率二氧化碳轴快流激光器以及等离子体仿真软件。
距量产仍有时日，需攻克功率与稳定性难题
尽管首秀标志着国产EUV光源从实验室走向产业化的关键一步，但现场工作人员坦言，该光源系统距离量产仍需3至5年时间。当前面临的核心挑战在于提升输出功率和长期运行稳定性。
商用EUV光刻系统要求光源功率达到数百瓦级别，并能在长时间运行中保持高度可靠。工博会现场展示的样机目前验证了技术路线的可行性，但距离工业级应用所需的产品成熟度仍有明显差距。