半导体材料作为芯片制造的“粮食”,其纯度与性能直接决定集成电路的良率与可靠性。在大硅片领域,长期由日本信越、日本SUMCO、德国Siltronic等国际厂商主导,国内企业长期处于技术跟随状态。
当前芯片制造技术对硅片的工艺要求越来越高,中欣晶圆半导体材料研究院的建立致力于于改写这一格局。成立至今,研究院所研发的具有自主知识产权的8英寸轻掺抛光片、12英寸CIS外延片、12英寸轻掺Logic外延片、8/12英寸退火片、8/12英寸低氧MCZ抛光片、8/12英寸超低阻红磷抛光/外延片均已实现量产,产品线全面覆盖存储、逻辑、图像处理、分立器件/功率器件、通用处理器等领域。
中欣晶圆非常注重技术创新与专利申请,针对大硅片的产品开发、技术开发和工艺改进研究等研发费用逐年增加,2023及2024年度研发费用占营业收入比例分别为11%和13%。截至2025年年中,公司已获授权的专利为285项,其中发明专利150项,正在申请中的发明专利达549项。
“半导体材料研发需要十年磨一剑的定力,”杭州中欣晶圆半导体股份有限公司总经理张友海表示:“中欣晶圆通过应用导向的研发体系,正在构建从基础研究到产业化的完整创新链。”