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欧洲斥资8.3亿欧元建设FD-SOI中试线!用平面CMOS实现7nm

欧洲斥资8.3亿欧元建设FD-SOI中试线!用平面CMOS实现7nm 中国电子材料行业协会
2024-07-02
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导读:2024中国电子新材料产业创新发展(百色)大会踊跃报名中

近期,CEA-Leti(法国原子能委员会电子与信息技术实验室)宣布启动代号FAMES的FD-SOI中试线,这是一项旨在推动欧洲半导体技术发展的重大项目。这项耗资 8.3 亿欧元(约合 8.889 亿美元)的计划符合《欧盟芯片法案》增强欧盟半导体能力和确保技术主权的目标。


该试验生产线将开发5套新技术:

  1. 具有 10nm 和 7nm 两个新一代节点的FD-SOI

  2. 嵌入式非易失性存储器,包括OxRAM、FeRAM、MRAM 和FeFET

  3. 射频元件,如开关、滤波器和电容器

  4. 两种3D集成选项:异构集成和顺序集成

  5. 用于开发电源管理集成电路(PMIC)的DC-DC转换器的小型电感器

FD-SOI由CEA-Leti发明,是一种平面CMOS技术,可为混合电路(包括数字、模拟和射频模块)提供卓越的性能、功率、面积、成本和环境影响。由于其在晶体管级的严格静电控制以及适用于创新的电源管理技术,它已被全球半导体领导公司采用。


FD-SOI市场正在期待10nm和7nm的下一代节点。


电子系统价值链中的43家公司(包括材料供应商、设备制造商、无晶圆厂公司、EDA、IDM、系统公司以及来自 ITC、汽车、医疗设备、航天和安全市场的最终用户)已表示支持FAMES计划。这种支持标志着一个由初创企业、中小企业和全球行业领袖组成的充满活力的生态系统的产生。


CEA-Leti首席技术官Jean-René Lèquepeys 表示:“通过整合和组合一系列尖端技术,FAMES试验线将为颠覆性的片上系统架构打开大门,并为未来芯片提供更智能、更环保、更高效的解决方案。FAMES项目确实将特别关注半导体可持续性挑战。”


Chips JU执行董事Jari Kinaret 表示:“Chips JU对此十分骄傲,十分有幸能够为这一战略举措做出贡献,并加强欧盟在关键领域的主权。这条试验生产线将推动关键半导体技术的发展,同时高度重视可持续性,并促进多个欧洲参与者之间的合作。Chips JU旨在成为关键领域进一步公私合作的催化剂和典范。”

FAMES 联盟成员包括:

  • CEA-Leti(法国)

  • Imec(比利时)

  • Fraunhofer Mikroelektronik(德国

  • Tyndall(爱尔兰)

  • VTT(芬兰

  • CEZAMAT WUT(波兰)

  • UCLouvain(比利时)

  • Silicon Austria Labs(奥地利)

  • SiNANO Institute(法国)

  • Grenoble INP-UGA(法国)

  • University of Granada(西班牙)




新技术将为低功耗微控制器(MCU)、多处理器单元(MPU)、人工智能和机器学习设备、智能数据融合处理器、射频设备、5G/6G芯片、汽车市场芯片、智能传感器和成像仪、可信芯片和新空间组件创造市场机会。

该试点生产线将通过年度公开招标和应要求,按照公平、非歧视性的选择程序向所有欧盟利益相关者开放,包括大学、农村电力输送组织、中小企业和工业公司,以及意向国家。


该项目将获得总计8.3亿欧元的资金,由参与成员国和 Chips JU均等出资。


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