广东汇成真空科技股份有限公司（以下简称HCVAC）是一家面向全球的真空应用解决方案提供商，研发、生产和销售光学镀膜设备、功能性薄膜涂层设备、装饰涂层设备、卷绕镀膜设备、汽车零部件镀膜设备、连续式磁控溅射镀膜生产线、超高真空系统等真空设备、半导体设备、电子生产设备、光电设备、光伏设备、动力电池设备及产品相关配件的国家高新技术企业，专注设备与产品的相关制造工艺和应用技术、控制软件、工艺流程控制软件及相关生产自动化软件的研发、应用，并提供技术转让、技术咨询和技术服务。
产品中心
HCVAC重点发展连续式磁控镀膜生产线、柔性薄膜卷绕镀膜技术、光学镀膜技术及离子镀膜技术，包括非平衡磁控、中频磁控溅射、电弧蒸发源、离子源辅助镀膜、电子束蒸发、PECVD等多种核心技术组合，针对每个行业的特殊需求，将尖端设备技术和综合工序以及应用专业技术相结合，从研发、原型制作到批量生产，提供定制化的真空应用工艺技术及设备解决方案。
其中，光学薄膜设备可以制备各种具备光学发生的膜层，改变它们所应用的基底材料的透射率和反射率特性，如AR、UV/IR截止滤光片、AF、电机用金属膜、硬质AR膜、增强反射膜、硬质膜、装饰膜、ITO膜、二向色镜、带通滤光片、偏光树脂、RGB滤光器、光触媒、HR膜等，广泛应用于数码相机、智能手机、眼镜、投影仪、光学拾波器、光通讯、LED、电子用品、装饰用品、太阳电池、显示器等。具体设备如下：
原子层沉积（ALD）镀膜机
原子层沉积是通过气相前驱体及反应物脉冲交替的通入反应腔并在基底上发生表面化学反应形成薄膜的一种方法，通过自限制性的前驱体交替饱和反应获得厚度、组分、形貌及结构在纳米尺度上高度可控的薄膜。
ALD设备提供创新和灵活的设计，为MEMS和复杂的3D表面沉积高质量的光学薄膜，显著提高镀膜产品的性能和使用寿命，设备运行速度快、可靠性高且极易维护。
特点：
1、热法原子层沉积（TALD）和等离子增强原子层沉积（PEALD）可选
2、批量镀膜加工（基材尺寸：8",10",12"）
3、低温工艺，塑料基材可镀
4、3D表面镀膜高保型性
5、薄膜均匀、光滑、致密、无针孔
6、膜厚精确控制
簇式微纳加工中心
设备模块化设计，可结合等离子清洗（Plasma-clean）单元，磁控溅射（SPT）单元，等离子增强化学反应（PECVD）单元，原子层沉积（ALD）单元，以及等离子化学反应刻蚀（RIE）单元，拓展成簇式微纳加工中心，涵盖半导体微纳结构加工的基材清洗、薄膜沉积（含超薄薄膜）和图案化刻蚀整套工序。满足严格的薄膜沉积均匀性规格，最大程度减少了高应力薄膜缺陷，提高产量而降低成本。
特点：
1、模块化设计，便于升级或改装，为客户提供理想配置
2、腔体相互独立，不同工艺灵活切换
3、SPT：沉积多种不同材料，可选共溅射模式
4、PECVD：应用于多种光学膜系材料，n、k值可调
5、ALD：镀超薄膜，膜层均匀、高覆盖率
磁控溅射光学镀膜设备
该系列设备采用金属模式溅射技术与高反应性等离子体源相结合，进出料室配备机械手自动传输基片，批量生产中的均匀性<0.8%，实现高质量生产。
RF-ICP/CCP专利离子源，具有工作范围广，能量均衡，高离化率，高稳定工作效率，低耗能等特点，清洗基板及辅助镀膜，提高薄膜品质。设备便捷灵活，在大规模生产中可以简单快速切换工艺和基板，双旋转圆柱阴极，稳定放电，多对直流/中频磁控阴极，支持不同材料，阴极磁场在线调节，靶材利用率高，提高薄膜均匀性。现场先进的过程控制技术，等离子体监控与宽带光学监控相结合，提供优异的光学性能，提高产量。
广泛应用于玻璃、塑料或金属等2D/2.5D/3D基板上镀高精度光学薄膜，镀制UV/IR截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、激光雷达、AR、硬质AR膜、硬质膜（Si3N4或DLC）、HR膜、AS/AF膜、电介质膜（Ta2O5、Nb2O5、SiO2、Al2O3、TiO2、SiN、SiON）、透明导电膜（ITO）、金属膜（钽、钛、铝、铬、铜）、装饰膜（CrN、CrON）、半导体（非晶硅，硅）等。
高精密电子束蒸发光学镀膜设备
该系列设备配备全自动光学膜厚控制，可选射频RF/考夫曼型/霍尔型离子源，高离子电流密度，均匀分布，确保半导体、光学领域的高精度薄膜工艺，搭载双电子枪，多点和环型坩埚镀100层以上薄膜，利用自动蒸镀控制系统实现全自动蒸镀过程。工件架可选钟罩式或行星式，公转/自转/翻转的旋转方式，本公司独有的比率控制法和多点在线监控，可以形成高精度且稳定的光学多层膜。
广泛应用于玻璃/PC/PMMA基片上镀高精度光学多层膜，将多种功能组合，形成品质更加优良的薄膜，镀制UV/IR截止滤光片、装饰膜、带通滤光片、RGB滤光片、光触媒、HR膜等。
另外，针对每个行业的特殊需求，将尖端设备技术和综合工序以及应用专业技术相结合，从研发、原型制作到批量生产，提供定制化的真空应用工艺技术及设备解决方案。具体设备如下：
功能性涂层设备
HCVAC在PMA I 专利技术的基础上，开发出PMA II专利技术，并成功的将PMA II技术集成到新一代HCSH涂层系统上。该系统具有灵活的配置，可以与ARC、MS、HIPIMS等技术组合使用，为新涂层，新材料的开发提供更多的可能性，广泛应用于科研、半导体、工具、刀具、模具、零部件、医疗器械、光学、新能源等行业。
装饰涂层设备
可在五金、不锈钢板、不锈钢管、玻璃、陶瓷、塑胶、亚克力、树脂等表面沉积装饰效果涂层，设备操作简单、成本低、生产量大的优点，广泛应用于首饰、钟表、灯饰、厨卫洁具、建筑、医疗、餐饮、科研、数码、娱乐、电器、化妆品、玩具等行业，镀膜后的产品能够展现出雍容华贵、光彩夺目等各种各样的美丽效果，并且膜层长期使用不褪色。
卷绕镀膜设备
采用磁控溅射或蒸发的PVD技术在带状条状基材上进行连续镀膜，磁控溅射技术可在PET、PI、PC、COP、其他柔性聚合物、金属带等带状卷材表面进行连续镀膜，可镀铝、钛、铬、铜、镍铬、镍、银等金属材料，TiO2、Nb2O5、SiO2、ITO、SiAlOx、MoOx和其他氮化物或氧化物。蒸发技术可在PET、(B)OPP、PVC、CPP和其他大分子薄膜、纸张、金属箔等表面进行连续镀膜。
汽车零部件镀膜设备
应用于汽车灯、汽车内外饰件、照明反光杯等零部件的真空镀膜设备和工艺，例如汽车头灯和尾灯、汽车后视镜、车标、汽车栅格、门把手、门窗亮条、内饰条、照明反光杯等。该系列设备配置了等离子体处理装置，高效磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好。
连续磁控溅射镀膜生产线
连续式磁控溅射镀膜生产线可提供立式、斜5-7度立式和卧式三种设计，采用磁控溅射、蒸发、HiPIMS、PECVD或其组合等镀膜技术，可选配自动化上下料系统，优化了大规模生产。旋转靶材技术替代平面靶实现较高的靶材利用率，完全无接触的磁悬浮工件架传输系统实现最小的颗粒缺陷，采用折返室的设计理念将占地面积降到最低。
技术应用
随着AR、5G通信广泛应用，立足于智能手机领域，拓展在IOT领域(车载相关、半导体与光学融合、生物识别等)、监控摄像头、AI及LED等领域。公司设置光电薄膜实验室，与客户深度合作开发未来设备和工艺，以投资或合作的方式开发新的成膜技术，不断完善镀膜设备，应用于数码相机、智能手机、眼镜、投影仪、光传感器、光通讯、LED、电子用品、装饰用品、太阳电池、显示器等领域。
HCVAC为光学、光电、先进封装和半导体市场提供薄膜沉积和蚀刻的完整解决方案，从研发到原型制作、批量生产，凭借蒸发、溅射、PECVD、ALD等核心技术组合，我们能够提供实用的生产建议、研发服务和定制工程，以满足客户的个性化需求，APC工艺控制技术、PEM在线监控薄膜成分、晶控或光控技术精控薄膜厚度，提高设备稳定性和工艺重复性。
