CSEAC 展商风采︱研微（江苏）半导体科技有限公司

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观众在 8月25日 前完成观展报名，即可享受免费参观展览与开放论坛，并额外获得专属抽奖资格：

一等奖：HUAWEI Mate X7

二等奖：磁吸快充移动电源

三等奖：精美手持电扇

*抽奖环节全程公开透明，中奖结果于展会现场公示，获奖观众需到场核验身份领取奖品。

展 商 风 采

研微（江苏）半导体科技有限公司
Pinoeer Semiconductor Research Co.,Ltd

Booth：A1-32

公司简介：研微（江苏）半导体科技有限公司（简称“研微半导体”）成立于 2022 年，坐落于无锡经济开发区。公司致力于研发、生产和销售具有自主知识产权且具备国际竞争力的半导体设备，专注于原子层沉积（ALD)、 Si 外延沉积（SI EPI）、等离子体化学气相沉积（PECVD）、SiC 外延（SiC EPI）以及原子层刻蚀（ALE）等设备及工艺技术的研发。公司的目标是解决高端芯片制造中沉积和刻蚀技术的难题，引领更先进的沉积和刻蚀设备技术，同时与上下游产业链紧密合作齐步向前，助力中国半导体产业的加速腾飞！

主要产品名称：Spritz 喷淋头热原子层沉积（Showerhead Thermal ALD）设备

产品应用领域：广泛应用于HKMG金属层沉积、3D NAND WL、DRAM bWL、SN区域薄膜填充

• 产品特点：设备采用自研喷淋头腔体架构，搭载高产能Celeritas-8传输平台及智能化Exsequi控制系统，从底层架构层面实现设备产能与运行稳定性的双重跃升。其配套的先进进气、混气与匀流系统，结合精准控温的多区温控模块，可大幅优化全域气流与热场分布，在显著提升薄膜沉积均匀性的同时，从源头抑制喷淋头区域颗粒生成；标配的原位清洗功能，可有效延长腔体服役寿命，依托QCM 2+4架构高效布局，整机产能较传统设备提升30%，从运维、产出双维度大幅降低客户长期量产的综合使用成本。