距离开幕还剩 44 天
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第十四届半导体设备材料及核心部件展（CSEAC 2026）将于2026年8月31日至9月2日，在无锡太湖国际博览中心举办。7万平方，八馆联动1300+展商，涵盖晶圆制造、封装测试、核心部件、材料等领域。CSEAC汇聚国内外知名企业，同期活动丰富，更完整呈现半导体行业动态，更及时把握当下行业趋势，更好应对未来的挑战与机遇！
诚邀行业同仁莅临盛会，携手见证这场年度性中国半导体盛宴！
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CSEAC 2026
展 商 风 采
安泰天龙钨钼科技有限公司
ATTL Advanced Materials Co .,Ltd
Booth：B3-392
公司简介：安泰天龙是央企“中国钢研科技集团”旗下主力上市公司“安泰科技股份有限公司”(股票代码 000969)的全资子公司，是安泰科技旗下专业从事难熔材料研究、制造和服务的业务单元，承接了中国钢研科技集团在难熔金属材料领域七十多年不懈耕耘的成果，是央企发挥自身优势、整合社会资源、创新发展机制的典范，是中国钨钼材料精深加工领域的领军企业。
主要产品名称：MOCVD加热器
产品介绍：MOCVD是一种利用有机金属分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。为了生长出多组分、大面积、薄层和超薄层化合物半导体材料， MOCVD设备除了要考虑系统密封性、流量、组分变换迅速等，最重要的是反应腔的温度控制。腔体温度控制精度需达到0.2℃或更高，高的温度均匀性也是产品良率的重要保证，MOCVD加热器则是控制腔体热场均匀、稳定、可靠的核心组件。
安泰天龙拥有70余年难熔材料研发制备经验，对选材和制备工艺经验丰富，可以向客户提供配套于主流MOCVD设备的加热器组件和零配件。
主要产品名称：离子注入机用钨钼配件
产品介绍：离子注入（扫描加速器式）是一种把高能量的掺杂元素的离子注入半导体晶片中，以得到所需要的掺杂浓度和结深的方法。离子注入由于化学上纯净、工艺上精确可控，因此作为一种独特的研究手段，还被广泛应用于改变光学材料的折射率、提高超导材料的临界温度、表面催化、改变磁性材料的磁化强度、提高磁泡的运动速度和模拟中子辐照损伤等领域。
离子注入机的离子源系统主要由1.6-45mm的钨钼板棒材经过精密加工制得的钨钼器件组成。
我们生产的钨钼离子注入部件已广泛应用于各种型号离子注入机的腔室、灯丝、叶片、支架、阴极等部位。此外，依托强大的机加工能力，我们还可提供叶片、端子、绝缘体等石墨和陶瓷等部件。
*报名活动最终解释权归CSEAC组委会所有
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