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CSEAC 展商风采︱创微微电子(常州)有限公司

CSEAC 展商风采︱创微微电子(常州)有限公司 微电子制造
2026-07-03
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导读:Booth:A3-124 湿法清洗设备国产替代新势力

距离开幕还剩 58 天

第十四届半导体设备材料及核心部件展(CSEAC 2026)将于2026年8月31日至9月2日,在无锡太湖国际博览中心举办。7万平方,八馆联动1300+展商,涵盖晶圆制造、封装测试、核心部件、材料等领域。CSEAC汇聚国内外知名企业,同期活动丰富,更完整呈现半导体行业动态,更及时把握当下行业趋势,更好应对未来的挑战与机遇!


诚邀行业同仁莅临盛会,携手见证这场年度性中国半导体盛宴!

△ 请扫上方二维码,进入报名页面 △

提前预登记 抽惊喜豪礼

观众在 8月25日 前完成观展报名,即可享受免费参观展览与开放论坛,并额外获得专属抽奖资格:

一等奖:HUAWEI Mate X7

二等奖:磁吸快充移动电源

三等奖:精美手持电扇

*抽奖环节全程公开透明,中奖结果于展会现场公示,获奖观众需到场核验身份领取奖品。



CSEAC 2026

展 商 风 采


创微微电子(常州)有限公司

tronway Changzhou Co., Ltd.

Booth:A3-124


公司简介深圳捷佳伟创 2020 年 9 月投资设立创微微电子(常州),专注集成电路湿法清洗设备研发制造。公司汇聚百余人团队(含 30 余位行业专家),依托境外技术合作与自主研发,已获数十项知识产权,目标五年内拿下国内湿法设备 20% 市场份额,致力实现国产替代,打造本地化集成电路湿法工艺一流设备供应商。



主要产品名称:单片式湿法清洗设备


产品应用领域:集成电路、分立器件



  • 技术指标:工艺表现 PA adder, >0.2um <10ea u% <3% 金属刻蚀 SECS GEM, RMS, iEMS, FDC Scheduler

  • 用途:功能应用 UBM etching, Metal liftoff,DSP clean, PR Stripper,Backside Etching,Glass clean


主要产品名称:6~12吋全自动有篮&无篮清洗设备


产品应用领域:集成电路



  • 技术指标:工艺表现 PA adder, 0.16um <10ea u% <3% 氧化物刻蚀 SECS GEM, RMS, iEMS, FDC Scheduler

  • 用途:功能应用 PR stripper,Nit Stripper,,Pre-Clean,B-Clean,Metal etching,Recycle,Post CMP clean, EKC stripper,Post Ash Polymer Removal



点此查看更多产品详情

*报名活动最终解释权归CSEAC组委会所有


联系我们

Contact us

021-61009295

gloria.zhu@cseac.org.cn

Web:www.cseac.org.cn

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